點腐蝕就是指在金屬材料表面大部分不腐蝕或者腐蝕輕微，而分散發生的局部腐蝕。一般點腐蝕的孔徑都小于1mm，深度都小于孔徑。不銹鋼在含有Cl的環境中容易出現點腐蝕(shi)的傾向。
金屬材料在某些環境介質中，經過一定的時間后，大部分表面不發生腐蝕或腐蝕很輕微，但在表面的微小區域內，出現蝕孔或麻點，且隨著時間的推移，蝕孔不斷向縱深方向發展，形成小孔狀腐蝕坑。這種現象稱為點腐蝕，亦稱為點蝕、小孔腐蝕、孔蝕。
點(dian)(dian)(dian)蝕(shi)(shi)(shi)幾何形態(tai)上(shang)構成(cheng)了大陰(yin)極(ji)小陽極(ji)的(de)結(jie)構，致使(shi)蝕(shi)(shi)(shi)孔(kong)的(de)陽極(ji)溶解速度相當大，能很(hen)快導致腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)穿孔(kong)破壞。此外，點(dian)(dian)(dian)蝕(shi)(shi)(shi)能夠(gou)加劇其他類型的(de)局部腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)，如晶間腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)、應力腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)開裂、腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)疲勞(lao)等。 點(dian)(dian)(dian)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)的(de)重要特征 點(dian)(dian)(dian)蝕(shi)(shi)(shi)多發生在(zai)表面生成(cheng)氧(yang)化膜或(huo)鈍(dun)化膜的(de)金屬材(cai)料上(shang)，或(huo)有陰(yin)極(ji)性鍍層的(de)金屬上(shang)。 點(dian)(dian)(dian)蝕(shi)(shi)(shi)常(chang)常(chang)發生在(zai)有特殊離子的(de)介質中(zhong)，即有氧(yang)化劑和同時有活性陰(yin)離子存在(zai)的(de)鈍(dun)化性溶液中(zhong)。活性陰(yin)離子是發生點(dian)(dian)(dian)蝕(shi)(shi)(shi)的(de)必(bi)要條件(jian)。
點腐蝕是一種外觀(guan)隱蔽(bi)而(er)破壞性極(ji)大(da)的(de)局部(bu)腐蝕形式，點蝕發生在(zai)特定臨界(jie)電位(wei)以上。
影(ying)響(xiang)點蝕的(de)因素：
1. 鹵素離子及其它陰離子：在氯化物中，鐵、鎳、鋁(lv)、鈦、鋯以(yi)及它們的合金均可能產(chan)生點蝕。鋅、銅和鈦在含氯離子的溶液中，也可遭(zao)受(shou)鈍態的破壞。
很多含(han)氧的(de)非侵蝕(shi)性(xing)陰離(li)子，例如(ru)NO3-、CrO42-、SO42-、OH-、CO32-等，添(tian)加到(dao)含(han)Cl-的(de)溶液中，都(dou)可起到(dao)點蝕(shi)緩蝕(shi)劑的(de)作用。 而硫(liu)氰酸根(gen)、高氯酸根(gen)、次氯酸根(gen)等，可以促進點蝕(shi)。
2. 溶液中(zhong)的(de)陽(yang)離子(zi)(zi)和氣體物質：腐蝕介質中(zhong)，金屬陽(yang)離子(zi)(zi)與侵蝕性(xing)鹵化(hua)物陰離子(zi)(zi)共存時，氧化(hua)性(xing)金屬離子(zi)(zi)，如Fe3+、Cu2+和Hg2+對點蝕起促進(jin)作用。
3. 溶(rong)液的(de)pH值(zhi)： 在溶(rong)液pH值(zhi)低于(yu)9～10時，對二價金屬，如鐵、鎳、鎘、鋅和(he)鈷等，其(qi)點蝕(shi)電位與pH幾乎無關，高(gao)于(yu)此(ci)pH值(zhi)時，其(qi)點蝕(shi)電位變正(zheng)，是由于(yu)OH-離子(zi)的(de)鈍化作用所致(zhi)。
對三價(jia)金屬，例如鋁，發(fa)生(sheng)點蝕(shi)的條件及點蝕(shi)電位都(dou)不(bu)受溶(rong)液pH值的影響，這(zhe)是(shi)由鋁離(li)子水解的各(ge)步驟的緩沖作用所致。
4. 環境溫度：對(dui)鐵及(ji)其合金(jin)而(er)言，點蝕電位(wei)通(tong)常隨溫度升高而(er)降低(di)。
5.介(jie)質(zhi)流(liu)速：溶液的流(liu)動對抑(yi)制點蝕(shi)起一定的有(you)益作用。
