不(bu)銹(xiu)鋼化學鍍(du)鎳前(qian)處(chu)理采用閃(shan)鍍(du)鎳。


1. 工藝流程


低溫(wen)除油→水(shui)洗→活化(1:1鹽(yan)酸,時間1~3min)→水(shui)洗→閃鍍鎳→水(shui)洗→預(yu)鍍堿性(xing)化學鎳→水(shui)洗→酸性(xing)化學鍍鎳→水(shui)洗→烘(hong)干。



2. 閃鍍鎳(nie)工藝


 氯化鎳(NiCl2·6H2O)   220~240g/L   、  電流密度(DK)   2~20A/d㎡


 鹽酸(HCl)(d=1.17)     100~120mL/L   、 時(shi)間    2~4min


 先浸泡1~3min,使(shi)工件表面充分(fen)活化和(he)潤濕后,大電(dian)流沖(chong)擊,可獲得結(jie)合力好的閃鍍鎳層(ceng)。成(cheng)分(fen)簡單,溶液穩定。電(dian)流開到20A/d㎡也不致燒焦。



3. 預鍍堿(jian)性化學鎳


閃鍍(du)鎳(nie)后,如(ru)果直接用酸性化學鍍(du)鎳(nie),其(qi)反應(ying)過程中需要(yao)克(ke)服能(neng)峰(feng)的激(ji)活能(neng)很大,反應(ying)不易進(jin)行。使用堿性化學鍍(du)鎳(nie)預鍍(du),可降低克(ke)服能(neng)峰(feng)激(ji)活能(neng),使反應(ying)順利進(jin)行。


堿性化學鍍鎳成(cheng)分和工藝條件:


硫酸鎳(NiSO4·7H2O)    26~30g/L   、 次磷酸鈉(NaH2PO2·H2O) 22~25g/L


三乙醇胺[N(CH2CH2OH)3]  100g/L  、 氯化銨(NH4Cl)    25~35g/L


檸檬酸鈉(Na3C6H5O7·2H2O)   10~15g/L  、pH  9~10 


焦磷酸鈉(Na4P2O7·10H2O) 60g/L  、溫度   40~45℃  、時間   3~5min


 pH要保(bao)持在9~10之間。pH用三乙(yi)醇胺(an)調節。pH過低,反應(ying)不能(neng)進行,過高(gao),易造成溶液分解。溫(wen)度(du)也不能(neng)過高(gao),以避免溶液分解。


 預鍍堿(jian)性(xing)鍍鎳不能(neng)產生自(zi)(zi)催(cui)化(hua)反(fan)應,必須經(jing)觸發處理后(hou)才能(neng)進行(xing)自(zi)(zi)催(cui)化(hua)反(fan)應。用(yong)經(jing)浸(jin)鋅處理后(hou)的(de)鋁條觸發。浸(jin)鋅選用(yong)的(de)工藝(yi)如下:


 氫氧化鈉(NaOH)  500g/L  、三氯化鐵(FeCl3·6H2O)  1g/L  、  溫度  15~27℃


 氧化鋅(ZnO)  100g/L   、酒石酸鉀鈉(KNaC4H4O6·4H2O)  10g/L  、時間  0.5min



4. 酸性化學鍍鎳的選擇(ze)


 要(yao)求溶液有(you)(you)高的(de)(de)穩定性(xing)(xing)、高的(de)(de)沉積速(su)率,鍍(du)層(ceng)要(yao)有(you)(you)高的(de)(de)抗(kang)蝕性(xing)(xing),高的(de)(de)耐磨性(xing)(xing),要(yao)有(you)(you)與底層(ceng)的(de)(de)良(liang)好(hao)結合力。預鍍(du)堿性(xing)(xing)化(hua)學(xue)鎳(nie)后的(de)(de)鎳(nie)層(ceng)具有(you)(you)很(hen)好(hao)的(de)(de)催化(hua)活性(xing)(xing),酸(suan)性(xing)(xing)化(hua)學(xue)鍍(du)鎳(nie)反應容易進行。


酸性化學鍍鎳溶液成(cheng)分和工(gong)藝(yi)條件:


硫酸鎳(NiSO4·7H2O)  26~30g/L  、乳酸(C3H6O5)(85%)  15mL/L


次磷酸鈉(NaH2PO2·H2O)  22~25g/L  、 丙酸(C3H6O2)  5m/L


三氧化鉬(MoO3)  0.005g/L  、 檸檬酸鈉(Na3C6H5O7)  8~10g/L


乙酸鈉(CH3COONa)  8~10g/L  、 pH  4.4~4.8   、 溫度  85~90℃  、 鍍層含磷量 10%


蘋果酸(C4H6O3)  15g/L 、琥珀酸(C4H6O4)  5g/L 、沉積速率  10μm/h  


本工藝需控制(zhi)的是pH和溫度。