不銹鋼化學鍍(du)鎳前處(chu)理采用閃鍍(du)鎳。


1. 工藝(yi)流程


低(di)溫除(chu)油→水(shui)(shui)洗(xi)→活化(1:1鹽酸,時間(jian)1~3min)→水(shui)(shui)洗(xi)→閃(shan)鍍鎳(nie)→水(shui)(shui)洗(xi)→預鍍堿性(xing)化學(xue)鎳(nie)→水(shui)(shui)洗(xi)→酸性(xing)化學(xue)鍍鎳(nie)→水(shui)(shui)洗(xi)→烘干(gan)。



2. 閃鍍鎳工藝


 氯化鎳(NiCl2·6H2O)   220~240g/L   、  電流密度(DK)   2~20A/d㎡


 鹽酸(HCl)(d=1.17)     100~120mL/L   、 時(shi)間    2~4min


 先(xian)浸泡1~3min,使工件表面(mian)充(chong)分活化和潤濕后,大電流(liu)沖擊,可獲得結(jie)合力好的閃鍍鎳層。成分簡單(dan),溶液穩定。電流(liu)開到20A/d㎡也不(bu)致燒(shao)焦。



3. 預鍍堿性(xing)化(hua)學鎳


閃鍍(du)(du)鎳(nie)后,如(ru)果直接(jie)用酸性化(hua)(hua)學(xue)(xue)鍍(du)(du)鎳(nie),其反(fan)應(ying)(ying)過(guo)程中需要克服能(neng)峰(feng)的激活能(neng)很大,反(fan)應(ying)(ying)不(bu)易進行。使用堿性化(hua)(hua)學(xue)(xue)鍍(du)(du)鎳(nie)預鍍(du)(du),可降低克服能(neng)峰(feng)激活能(neng),使反(fan)應(ying)(ying)順(shun)利進行。


堿性化學鍍鎳成分和工藝條件:


硫酸鎳(NiSO4·7H2O)    26~30g/L   、 次磷酸鈉(NaH2PO2·H2O) 22~25g/L


三乙醇胺[N(CH2CH2OH)3]  100g/L  、 氯化銨(NH4Cl)    25~35g/L


檸檬酸鈉(Na3C6H5O7·2H2O)   10~15g/L  、pH  9~10 


焦磷酸鈉(Na4P2O7·10H2O) 60g/L  、溫度   40~45℃  、時間   3~5min


 pH要保持在9~10之(zhi)間。pH用三乙(yi)醇胺調節。pH過低,反應(ying)不(bu)能進(jin)行,過高(gao),易造成溶液分解。溫度也不(bu)能過高(gao),以避免溶液分解。


 預鍍堿性鍍鎳不能產生自(zi)催(cui)化(hua)反(fan)應,必須經(jing)觸(chu)發處(chu)理后才(cai)能進(jin)行自(zi)催(cui)化(hua)反(fan)應。用經(jing)浸(jin)鋅處(chu)理后的(de)鋁條觸(chu)發。浸(jin)鋅選用的(de)工藝(yi)如下:


 氫氧化鈉(NaOH)  500g/L  、三氯化鐵(FeCl3·6H2O)  1g/L  、  溫度  15~27℃


 氧化鋅(ZnO)  100g/L   、酒石酸鉀鈉(KNaC4H4O6·4H2O)  10g/L  、時間  0.5min



4. 酸性化學鍍鎳的選擇(ze)


 要求(qiu)溶液有高(gao)的(de)(de)(de)穩定性(xing)、高(gao)的(de)(de)(de)沉積速率,鍍層(ceng)要有高(gao)的(de)(de)(de)抗(kang)蝕性(xing),高(gao)的(de)(de)(de)耐磨(mo)性(xing),要有與底層(ceng)的(de)(de)(de)良好結合力。預鍍堿(jian)性(xing)化學(xue)鎳(nie)后的(de)(de)(de)鎳(nie)層(ceng)具(ju)有很好的(de)(de)(de)催化活性(xing),酸(suan)性(xing)化學(xue)鍍鎳(nie)反應容易進行。


酸性化學(xue)鍍鎳溶液成(cheng)分和(he)工藝條件:


硫酸鎳(NiSO4·7H2O)  26~30g/L  、乳酸(C3H6O5)(85%)  15mL/L


次磷酸鈉(NaH2PO2·H2O)  22~25g/L  、 丙酸(C3H6O2)  5m/L


三氧化鉬(MoO3)  0.005g/L  、 檸檬酸鈉(Na3C6H5O7)  8~10g/L


乙酸鈉(CH3COONa)  8~10g/L  、 pH  4.4~4.8   、 溫度  85~90℃  、 鍍層含磷量 10%


蘋果酸(C4H6O3)  15g/L 、琥珀酸(C4H6O4)  5g/L 、沉積速率  10μm/h  


本工藝需(xu)控制(zhi)的是pH和溫度(du)。