電化學拋光是以被拋光工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩電極同時浸入電化學拋光槽中，通以直流電而產生有選擇性的陽極溶解，陽極表面光亮度增大，這種過程與電鍍過程正好相反。

 電化學拋光機理－黏性薄膜理論如下。拋光主要是陽極電極過程和表面磷酸鹽膜共同作用的結果。從陽極溶解下來的金屬離子與拋光液中的磷酸形成溶解度小，黏性大、擴散速率小的磷酸鹽，并慢慢地積累在陽極附近，粘接在陽極表面，形成了黏滯性較大的電解液層。密度大、導電能力差的黏膜在微觀表面上分布不均勻，從而影響了電流密度在陽極上的分布。很明顯，黏膜在微觀凸起處比凹洼處的厚度小，使凸起處的電流密度較高而溶解速率較快。隨著黏膜的流動，凸凹位置的不斷變換，粗糙表面逐漸整平。不銹鋼表面因此被拋光達到高度光潔和光澤的外觀。

 由(you)(you)此(ci)可(ke)見，溶(rong)液(ye)濃(nong)度和(he)黏(nian)度是(shi)個重(zhong)要(yao)因素，特別(bie)是(shi)溶(rong)液(ye)的(de)(de)黏(nian)度，往往表現(xian)在新配的(de)(de)拋(pao)光液(ye)雖然組分濃(nong)度達(da)到了要(yao)求(qiu)，但由(you)(you)于(yu)黏(nian)度尚未(wei)達(da)到要(yao)求(qiu)而(er)拋(pao)不(bu)光，只有在經過(guo)一段時間的(de)(de)電解(jie)后(hou)才開始拋(pao)光良(liang)好。特別(bie)是(shi)溶(rong)液(ye)與(yu)零(ling)件(jian)(jian)(jian)的(de)(de)界(jie)面濃(nong)度和(he)黏(nian)度，在拋(pao)光中起著重(zhong)要(yao)作用。這就是(shi)為(wei)什么要(yao)求(qiu)零(ling)件(jian)(jian)(jian)在進入拋(pao)光液(ye)前表面水膜要(yao)均勻，否則零(ling)件(jian)(jian)(jian)表面帶水膜的(de)(de)不(bu)均勻性，破壞了黏(nian)膜的(de)(de)正常生成，發生局部過(guo)腐(fu)蝕現(xian)象。水洗后(hou)的(de)(de)零(ling)件(jian)(jian)(jian)最好甩(shuai)干(gan)后(hou)迅速下槽，這樣(yang)通電拋(pao)光后(hou)，表面過(guo)腐(fu)蝕現(xian)象即可(ke)避免。

 電(dian)化(hua)學(xue)(xue)拋(pao)光(guang)還不(bu)能完全取代(dai)機(ji)械拋(pao)光(guang)。電(dian)化(hua)學(xue)(xue)拋(pao)光(guang)只是對金(jin)屬表面上起微觀整平作(zuo)用。宏觀的整平要靠(kao)機(ji)械拋(pao)光(guang)。電(dian)化(hua)學(xue)(xue)拋(pao)光(guang)對材料化(hua)學(xue)(xue)成分的不(bu)均勻性(xing)和顯(xian)微偏析特別敏感，使金(jin)屬基(ji)體和非金(jin)屬夾(jia)雜物(wu)之間常被劇烈浸蝕，有時，有不(bu)良的冶金(jin)狀態，金(jin)屬晶(jing)粒(li)尺寸結構的不(bu)均勻性(xing)、軋(ya)制痕跡、鹽類(lei)或氧(yang)化(hua)物(wu)的污(wu)染(ran)、酸洗過度以及淬火過度等(deng)均會對電(dian)化(hua)學(xue)(xue)拋(pao)光(guang)產生不(bu)良影響(xiang)。這些(xie)缺(que)陷常常要靠(kao)先期的機(ji)械拋(pao)光(guang)來彌(mi)補。

電化學拋(pao)光(guang)與手工機械拋(pao)光(guang)相比，能發揮下(xia)列優點：

 ①. 產品內(nei)外色(se)澤(ze)一致，清潔光(guang)亮，光(guang)澤(ze)持久，外觀輪廓清晰(xi)；

 ②. 螺(luo)紋(wen)中的(de)毛刺在(zai)電解過程中溶解脫落，螺(luo)紋(wen)間配合(he)松滑，防止螺(luo)紋(wen)間咬時的(de)咬死現象；

 ③. 拋光(guang)面(mian)抗(kang)腐蝕性能增強；

 ④. 與機械拋光相比(bi)，生產效率高，生產成本低(di)。