從圖5.22中可以看出，不同表面粗糙度的試樣的極化曲線都具有活性溶解-鈍化轉變的特征，并且都具有三個自腐蝕電位。當電位低于Ecorr-1時，三條曲線的腐蝕電流密度相差很小。因此為了簡化討論可以認為具有不同表面粗糙的試樣的陰極反應（H+的還原反應）是相同的，不隨表面粗糙度的變化而變化。金屬的陽極溶解電流隨著表面粗糙度的增加而增加，這種現象可以用金屬的表面功函數（EWF)來解釋。EWF是指材料的自由電子脫離材料表面的最低能量。金屬的暴露面積越大材料失去電子被氧化的概率就越高，且EWF隨著材料的表面粗糙度的增加而降低，表面粗糙度大的試樣具有較低的EWF和較大的有效暴露面積，因此越容易失去電子，從而加速材料的腐蝕過程。
圖5.25的理論極化曲線可以用來解釋不同表面粗糙度的雙相不(bu)銹鋼的腐蝕過程。圖5.25中A1、A2、A3分別代表理論陽極極化曲線，B代表理論陰極極化曲線，陰、陽極極化曲線的交點個數即代表了自腐蝕電位的個數。假設B和A1分別代表240號砂紙打磨后的試樣的理論陰、陽極極化曲線，因此測量的極化曲線就是二者的代數疊加，從圖5.25中可以看出A1和B有三個交點（1、2、3),即表示有三個自腐蝕電位。當表面粗糙度降低（800號和拋光試樣）時，陽極極化曲線變為A2和A3,從圖5.25中可以看到仍然出現了三個交點（1'、2'、3')和（1”、2"、3”），即有三個自腐蝕電位。不同表面粗糙度的試樣的自腐蝕電位有如下關系：Ecorr-1<Ecorr1'<E corr-1",E corr-2<E corr-2,<E corr-2",E corr-3<Ecor-3/<Ecorr-3”。如果陽極極化曲線轉變為A4和A5,自腐蝕電位轉變為兩個或者一個，但是這種情況在本實驗條件下沒有出現。
從圖5.22中可以看出，溶液的pH值可以顯著改變雙相不銹鋼在酸性NaCl溶液中的腐蝕行為，從而使自腐蝕電位的個數隨著H*濃度的降低而減少。在酸性NaCI溶液中，主要的陰極反應是H*的還原反應。可以用圖5.26中的理論極化曲線來解釋pH值改變對自腐蝕電位個數的影響。圖5.26中曲線A1、A2和A3分別代表雙相不銹鋼在不同pH值的溶液中的理論陽極極化曲線，B1、B2和B3代表陰極H+還原反應的理論極化曲線。如果腐蝕過程是由陰極曲線B1和陽極曲線A1耦合而成，那么在金屬的活性溶解區、溶解－鈍化過渡區和完全鈍化區內陰、陽極極化曲線就會有三個交點（1、2、3),也就會出現三個自腐蝕電位。這對應于圖5.22(a)中H2SO4濃度大于0.011mol/L的條件下的情況。降低溶液的pH值，就會影響陰、陽極反應的過程，從而改變極化曲線的位置。當陰、陽極極化曲線由B2和A2耦合而成，則只有兩個交點，也就是只有兩個自腐蝕電位存在。這對應于圖5.22(b)中H2SO4濃度介于0.0065~0.011mol/L時的條件下所得到的結果。進一步降低溶液的pH值，使硫酸濃度降為0.005mol/L以下，陰、陽極極化曲線由B3和A3耦合而成，則只有一個自腐蝕電位存在。若進一步降低溶液的pH值，自腐蝕電位的個數將不再發生改變，保持一個。
圖5.26 雙相不銹鋼在不同氧含量和H2SO4濃度的0.5mol/L NaCl溶液中的腐蝕過程（A1、A2、A3為理論陽極極化曲線；B1、B2、B3為理論陰極極化曲線）在有氧存在的條件下，溶液中的陰極反應除了H+的還原反應之外，還有氧的還原反應：
O2+4H++4e- ＝ 2H2O
因此，在(zai)有氧存在(zai)條件下的(de)陰(yin)極反(fan)應(ying)的(de)電流(liu)密(mi)度是(shi)氫還原反(fan)應(ying)和氧還原反(fan)應(ying)的(de)電流(liu)密(mi)度之和。從圖5.24中可以看出，溶(rong)液中的(de)氧不但能(neng)(neng)(neng)影(ying)(ying)響陰(yin)極反(fan)應(ying)過程，還能(neng)(neng)(neng)影(ying)(ying)響陽極反(fan)應(ying)過程，造成自(zi)腐蝕電位正移，腐蝕電流(liu)密(mi)度增加。可能(neng)(neng)(neng)是(shi)由(you)于溶(rong)液中的(de)氧含(han)量增加，獲得自(zi)由(you)電子的(de)概率增加；或者提(ti)高氧在(zai)金屬表(biao)面或者鈍化(hua)膜表(biao)面的(de)還原速度。
溶(rong)(rong)液(ye)中(zhong)的(de)(de)氧(yang)含(han)量對雙相不(bu)(bu)銹(xiu)鋼在(zai)(zai)(zai)酸(suan)性NaCl溶(rong)(rong)液(ye)中(zhong)的(de)(de)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)行為(wei)(wei)(wei)的(de)(de)影(ying)響可以(yi)用圖(tu)(tu)(tu)5.27來(lai)解(jie)釋。氧(yang)對雙相不(bu)(bu)銹(xiu)鋼腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)行為(wei)(wei)(wei)的(de)(de)影(ying)響與(yu)pH的(de)(de)影(ying)響效果基本一(yi)(yi)(yi)致。圖(tu)(tu)(tu)5.27(a)可用來(lai)解(jie)釋圖(tu)(tu)(tu)5.23(a)的(de)(de)實驗現(xian)(xian)象(xiang)。當溶(rong)(rong)液(ye)中(zhong)不(bu)(bu)含(han)氧(yang)（氮(dan)氣(qi)(qi)飽(bao)和(he)(he)(he)）時(shi)，B1和(he)(he)(he)A1分(fen)(fen)(fen)別代表(biao)理論(lun)的(de)(de)陰(yin)(yin)、陽(yang)(yang)極(ji)(ji)(ji)(ji)極(ji)(ji)(ji)(ji)化(hua)(hua)曲(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)線。從圖(tu)(tu)(tu)5.27中(zhong)可以(yi)看(kan)(kan)出(chu)曲(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)線有(you)三個(ge)(ge)(ge)(ge)交(jiao)(jiao)點，即存(cun)(cun)在(zai)(zai)(zai)三個(ge)(ge)(ge)(ge)自(zi)(zi)(zi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)位(wei)(wei) ECOrr-1、Ecorr-2和(he)(he)(he)Ecorr-3相對應(ying)(ying)的(de)(de)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)流密(mi)度(du)(du)為(wei)(wei)(wei)icorr-1、icorr-2和(he)(he)(he)icorr-3.當有(you)氧(yang)存(cun)(cun)在(zai)(zai)(zai)（空(kong)氣(qi)(qi)飽(bao)和(he)(he)(he)或氧(yang)飽(bao)和(he)(he)(he)）時(shi)，陰(yin)(yin)、陽(yang)(yang)極(ji)(ji)(ji)(ji)極(ji)(ji)(ji)(ji)化(hua)(hua)曲(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)線分(fen)(fen)(fen)別變為(wei)(wei)(wei)B2和(he)(he)(he)A2,仍然有(you)三個(ge)(ge)(ge)(ge)自(zi)(zi)(zi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)位(wei)(wei)Ecorr-1'、Ecorr-2'和(he)(he)(he)Ecorr-3',并且(qie) Ecorr-1'>E corr-1、Ecorr-21>Ecorr-2、Ecorr-3'>Ecorr-3。圖(tu)(tu)(tu)5.23(b)中(zhong)在(zai)(zai)(zai)通(tong)氧(yang)前后都(dou)只(zhi)(zhi)有(you)兩(liang)(liang)個(ge)(ge)(ge)(ge)自(zi)(zi)(zi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)位(wei)(wei)，這一(yi)(yi)(yi)現(xian)(xian)象(xiang)可以(yi)用圖(tu)(tu)(tu)5.27(b)來(lai)解(jie)釋。當溶(rong)(rong)液(ye)中(zhong)通(tong)入氧(yang)前，B1和(he)(he)(he)A1分(fen)(fen)(fen)別代表(biao)理論(lun)的(de)(de)陰(yin)(yin)、陽(yang)(yang)極(ji)(ji)(ji)(ji)極(ji)(ji)(ji)(ji)化(hua)(hua)曲(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)線，從圖(tu)(tu)(tu)5.27中(zhong)可以(yi)看(kan)(kan)出(chu)曲(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)線有(you)兩(liang)(liang)個(ge)(ge)(ge)(ge)交(jiao)(jiao)點，即存(cun)(cun)在(zai)(zai)(zai)兩(liang)(liang)個(ge)(ge)(ge)(ge)自(zi)(zi)(zi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)位(wei)(wei)Ecorr-1和(he)(he)(he)Ecorr-3,相對應(ying)(ying)的(de)(de)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)流密(mi)度(du)(du)為(wei)(wei)(wei)icorr-1和(he)(he)(he)icorr-3。當有(you)氧(yang)飽(bao)和(he)(he)(he)時(shi)，陰(yin)(yin)、陽(yang)(yang)極(ji)(ji)(ji)(ji)極(ji)(ji)(ji)(ji)化(hua)(hua)曲(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)線分(fen)(fen)(fen)別變為(wei)(wei)(wei)B2和(he)(he)(he)A2,仍然有(you)兩(liang)(liang)個(ge)(ge)(ge)(ge)自(zi)(zi)(zi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)位(wei)(wei) Ecorr-1'和(he)(he)(he)Ecorr-3'。通(tong)氧(yang)前后自(zi)(zi)(zi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)位(wei)(wei)的(de)(de)關系為(wei)(wei)(wei)Ecorr-1'>Ecorr-1,Ecorr-3'>Ecorr-3.當硫酸(suan)濃度(du)(du)為(wei)(wei)(wei)0.005mol/L時(shi)，在(zai)(zai)(zai)極(ji)(ji)(ji)(ji)化(hua)(hua)曲(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)線只(zhi)(zhi)有(you)一(yi)(yi)(yi)個(ge)(ge)(ge)(ge)自(zi)(zi)(zi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)位(wei)(wei)存(cun)(cun)在(zai)(zai)(zai)，但溶(rong)(rong)液(ye)經過氧(yang)飽(bao)和(he)(he)(he)后，自(zi)(zi)(zi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)位(wei)(wei)個(ge)(ge)(ge)(ge)數由(you)一(yi)(yi)(yi)個(ge)(ge)(ge)(ge)增加為(wei)(wei)(wei)兩(liang)(liang)個(ge)(ge)(ge)(ge)，這一(yi)(yi)(yi)現(xian)(xian)象(xiang)可以(yi)用圖(tu)(tu)(tu)5.27(c)來(lai)解(jie)釋。空(kong)氣(qi)(qi)飽(bao)和(he)(he)(he)溶(rong)(rong)液(ye)中(zhong)的(de)(de)理論(lun)陰(yin)(yin)、陽(yang)(yang)極(ji)(ji)(ji)(ji)極(ji)(ji)(ji)(ji)化(hua)(hua)曲(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)線分(fen)(fen)(fen)別為(wei)(wei)(wei)B1和(he)(he)(he)A1,從圖(tu)(tu)(tu)5.27中(zhong)可以(yi)看(kan)(kan)出(chu)只(zhi)(zhi)有(you)一(yi)(yi)(yi)個(ge)(ge)(ge)(ge)交(jiao)(jiao)點，即只(zhi)(zhi)存(cun)(cun)在(zai)(zai)(zai)一(yi)(yi)(yi)個(ge)(ge)(ge)(ge)自(zi)(zi)(zi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)位(wei)(wei)；當氧(yang)氣(qi)(qi)飽(bao)和(he)(he)(he)時(shi)，由(you)于氧(yang)氣(qi)(qi)促進(jin)了陰(yin)(yin)、陽(yang)(yang)極(ji)(ji)(ji)(ji)反應(ying)(ying)過程(cheng)，使陰(yin)(yin)、陽(yang)(yang)極(ji)(ji)(ji)(ji)極(ji)(ji)(ji)(ji)化(hua)(hua)曲(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)線到達B2和(he)(he)(he)A2,此時(shi)曲(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)(qu)線有(you)兩(liang)(liang)個(ge)(ge)(ge)(ge)交(jiao)(jiao)點，即出(chu)現(xian)(xian)兩(liang)(liang)個(ge)(ge)(ge)(ge)自(zi)(zi)(zi)腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)電(dian)(dian)位(wei)(wei)。
