不(bu)銹鋼(gang)化學(xue)與電化學(xue)蝕刻(ke)法主要有(you)以下幾種：
1. 照相感光蝕刻法
用一次性感光膜涂覆在不銹鋼(gang)表面上，然后覆上有花紋的底片，進行曝光，然后進行顯影，即在不銹鋼上形成花紋抗蝕膜，然后在腐蝕液中進行蝕刻，達到預期的蝕刻效果。
①. 不銹鋼量(liang)尺(chi)的(de)蝕刻，即(ji)用照相感光蝕刻法(fa)，以(yi)三(san)氯(lv)化鐵為蝕刻液，蝕刻后(hou)，再(zai)進行鍍黑色鍍層，形成清晰的(de)有色刻度、數字和標記(ji)的(de)不銹鋼量(liang)尺(chi)。
②. 不銹鋼筆(bi)桿、筆(bi)套上(shang)蝕(shi)花的(de)半色(se)(se)調(diao)(diao)腐蝕(shi)成像工藝,其(qi)方法(fa)是(shi)將(jiang)(jiang)攝有圖案連續調(diao)(diao)的(de)負片，進行加網翻拍，成為由網點組(zu)成的(de)半色(se)(se)調(diao)(diao)底(di)片，將(jiang)(jiang)底(di)片覆蓋在已涂(tu)(tu)有感光(guang)膜的(de)不銹鋼筆(bi)桿、筆(bi)套上(shang)，然(ran)后將(jiang)(jiang)其(qi)插在可旋轉的(de)軸芯上(shang)旋轉曝(pu)光(guang)。顯影后在室溫下用三氯化(hua)鐵溶液蝕(shi)刻至0.02~0.03mm,最后鍍黑(hei)或白鉻，涂(tu)(tu)罩光(guang)涂(tu)(tu)料。
③. 不銹鋼手(shou)表(biao)殼(ke)、表(biao)帶通過(guo)照(zhao)相(xiang)蝕刻法形成(cheng)凹(ao)凸面(mian)的圖案，并在腐蝕的凹(ao)面(mian)部分著上(shang)彩色膜,或除去抗蝕膜后鍍鎳及金(jin),得到具有良(liang)好裝飾性的手(shou)表(biao)殼(ke)、表(biao)帶。
2. 絲網印刷蝕刻法
絲(si)(si)(si)網印(yin)(yin)刷因制版、印(yin)(yin)刷簡便，適于各種形狀的(de)(de)表面(mian)，不受印(yin)(yin)刷數量多(duo)少的(de)(de)限制，成(cheng)為目前(qian)國際(ji)上五大印(yin)(yin)刷工(gong)藝之(zhi)一。隨(sui)著(zhu)絲(si)(si)(si)網印(yin)(yin)版、絲(si)(si)(si)印(yin)(yin)油(you)墨及設備(bei)等技術(shu)的(de)(de)進步，絲(si)(si)(si)印(yin)(yin)的(de)(de)精(jing)度(du)越(yue)來越(yue)高，與照(zhao)相感(gan)光蝕(shi)刻法一樣，絲(si)(si)(si)印(yin)(yin)蝕(shi)刻法在不銹鋼標牌、裝飾板(ban)等的(de)(de)生產中(zhong)已得到(dao)廣(guang)泛的(de)(de)應(ying)用。
日本(ben)粟野秀記介紹在不(bu)(bu)銹鋼表面用絲印方法形成帶圖紋的(de)非導電性抗蝕膜，在45℃,40°Bé的(de)三(san)氯化(hua)鐵溶液中將裸(luo)露部分(fen)的(de)不(bu)(bu)銹鋼蝕刻(ke)，深度為0.02~0.05mm,然后電解著色。
日(ri)本中村三等介紹在SUS304不銹鋼餐具上用絲(si)網印(yin)刷各(ge)種耐酸的(de)不同色彩(cai)的(de)搪瓷玻璃料(liao)進行(xing)掩(yan)蔽(bi)腐(fu)蝕的(de)方法,形(xing)成多色彩(cai)的(de)花紋圖案(an)。
3. 平版膠(jiao)印蝕(shi)刻法
與絲印相比，平版膠印的(de)(de)速度較(jiao)快，抗蝕(shi)膜的(de)(de)印刷可用印鐵流水線來完成,但適印范圍較(jiao)窄(zhai)，印刷面積受(shou)到(dao)限制，且(qie)僅適用于厚度為0.15~0.30mm的(de)(de)薄不銹鋼平版印刷蝕(shi)刻。
日本(ben)特(te)許公報(bao)介紹了一種(zhong)用于(yu)不銹(xiu)鋼(gang)膠印掩蔽蝕刻(ke)的油墨(mo)(mo)，該油墨(mo)(mo)是由(you)酚醛樹脂經(jing)5%~10%硝酸(suan)(suan)處理后制成的。普通的印鐵油墨(mo)(mo)為改性醇酸(suan)(suan)樹脂，也可作為抗蝕膜使(shi)用。
4. 印刷膜轉移(yi)蝕(shi)刻法
李金題利用印(yin)(yin)(yin)(yin)刷(shua)(shua)膜(mo)轉(zhuan)移(yi)法的(de)原理提出一(yi)種在(zai)凹(ao)凸(tu)不(bu)銹(xiu)鋼(gang)制品(pin)上印(yin)(yin)(yin)(yin)刷(shua)(shua)花紋(wen)(wen)圖案腐蝕(shi)(shi)的(de)技術方案。先印(yin)(yin)(yin)(yin)制帶有圖案的(de)薄(bo)紙(zhi)，然后涂上一(yi)層均勻的(de)桃膠，晾干(gan)后，再印(yin)(yin)(yin)(yin)刷(shua)(shua)一(yi)層抗(kang)腐蝕(shi)(shi)油(you)墨(mo)在(zai)薄(bo)紙(zhi)上形成印(yin)(yin)(yin)(yin)刷(shua)(shua)膜(mo)，然后把印(yin)(yin)(yin)(yin)刷(shua)(shua)膜(mo)轉(zhuan)移(yi)到不(bu)銹(xiu)鋼(gang)工(gong)件(jian)表面，經過清水(shui)浸(jin)泡后，薄(bo)紙(zhi)面脫落，但抗(kang)腐蝕(shi)(shi)油(you)墨(mo)仍貼在(zai)不(bu)銹(xiu)鋼(gang)表面，經修飾(shi)后用三(san)氯化鐵溶(rong)液蝕(shi)(shi)刻形成花紋(wen)(wen)圖案。
5. 絲網(wang)電解蝕刻法(fa)
絲(si)(si)網電(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)法是(shi)利(li)用(yong)已制(zhi)版的絲(si)(si)網印(yin)版緊貼于不銹鋼工件(jian)表面(mian)作為抗蝕(shi)(shi)膜(mo)層，在(zai)絲(si)(si)網上涂布(bu)蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)液，然后以(yi)(yi)工件(jian)為陽極，以(yi)(yi)能覆蓋圖(tu)案的輔助電(dian)(dian)極為陰極進行(xing)電(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)。絲(si)(si)網電(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)SUS304 不銹鋼，示意圖(tu)見圖(tu)10-11。蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)過程(cheng)可交替變換電(dian)(dian)極極性，也可以(yi)(yi)使用(yong)交流或直流與交流交替進行(xing)蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)。絲(si)(si)網電(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)法可省(sheng)去印(yin)刷(shua)抗蝕(shi)(shi)油墨(mo)、烘干及(ji)腐蝕(shi)(shi)后除膜(mo)等工序(xu)，蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)速(su)率(lv)快(kuai)，可在(zai)幾何形狀(zhuang)復雜的表面(mian)進行(xing)局部蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)，特別適用(yong)于在(zai)產品上直接打標印(yin)。
電解(jie)蝕刻液一般含有(you)硫酸(suan)、磷酸(suan)及(ji)(ji)鹽酸(suan)等無(wu)機酸(suan)，以不(bu)銹鋼(gang)工件(jian)為陽(yang)極，裸露部分(fen)的不(bu)銹鋼(gang)表面(mian)腐蝕剝(bo)落，形(xing)成花紋圖像。專利絲網電解(jie)蝕刻液及(ji)(ji)工作條(tiao)件(jian)有(you)下列幾例(li)。
①. 戶信夫日本(ben)專利絲網電解蝕刻液
硫酸（H2SO4) 10% 、陽極電流密度（DA) 3A/d㎡ 、氯化鈉（NaCl) 1% 、時間 30s 、聚丙烯酸鈉 3%
輔助電極手(shou)動移動。
②. 日本專利電解蝕(shi)刻(ke)除(chu)去不(bu)銹鋼(gang)上的彩色膜
不銹鋼先(xian)經鉻酸、硫酸著色，并(bing)經鉻酸－硫酸溶(rong)液(ye)陰(yin)極堅(jian)膜處理，然后在硫酸與（或）磷酸和表面活性(xing)劑的溶(rong)液(ye)中進行(xing)陽極電解(jie)蝕刻，可(ke)得到(dao)平(ping)滑(hua)的蝕刻面。
③. 方琳(lin)專利快(kuai)速深度電(dian)化學(xue)蝕(shi)刻液
三氯化鐵（FeCl3) 40%~60% (質量分數） 、水 余量 、電極 石墨
鹽酸(suan)（HCI) 1%~10% 、溫度 20~35℃ 、擴散(san)劑JFC 0.01%~1.00%
電流：先以Dk=0.1~0.5A/c㎡陰(yin)極極化1~2min,再以DA=0.6~1.0A/c㎡陽極極化50~60min。
蝕刻過程用噴淋裝置連(lian)續噴刷不銹(xiu)鋼表面。
④. 何積銓(quan)專利(li)超微精(jing)細蝕刻方(fang)法
三氯化鐵（FeCl3) 1000mL 、 重鉻酸鉀（K2Cr2O7) 0.5%~1.0% 、鹽酸（HCI) 40~50mL
輔助電極 18-8SS 、硝酸（HNO3) 150~200mL 、陽極與陰極面積比 SA:SK=1:1
電流：先(xian)以DK=0.5~1.0A/c㎡2陰極極化(hua)50~60min,再以DA=0.2~ 0.5A/c㎡陽極蝕刻。
蝕刻過程不斷(duan)攪(jiao)拌(ban)蝕刻液。
⑤. 譚文(wen)武介(jie)紹了(le)電解標印方(fang)法
用(yong)同為孔版(ban)的蠟紙或透明(ming)(ming)薄膜(mo)等(deng)模版(ban)代替絲網，將電(dian)(dian)解(jie)標(biao)(biao)(biao)印(yin)(yin)(yin)設計成專用(yong)的電(dian)(dian)解(jie)標(biao)(biao)(biao)印(yin)(yin)(yin)儀。將輔助電(dian)(dian)極制成標(biao)(biao)(biao)印(yin)(yin)(yin)頭（打(da)標(biao)(biao)(biao)頭），使刻(ke)印(yin)(yin)(yin)操作(zuo)更(geng)為簡便(bian)。電(dian)(dian)解(jie)蝕刻(ke)時隨標(biao)(biao)(biao)印(yin)(yin)(yin)字符(fu)的多(duo)少變化(hua)自(zi)動調(diao)控電(dian)(dian)流與電(dian)(dian)壓，使之保(bao)持電(dian)(dian)壓12~36V,電(dian)(dian)流0~2A,蝕刻(ke)時間2~3s,蝕刻(ke)深度0.01~0.10mm,透明(ming)(ming)薄膜(mo)膜(mo)版(ban)的使用(yong)壽命達(da)到上萬次。據報道，瑞典(dian)奧(ao)斯汀(ting)標(biao)(biao)(biao)志系統公司在廣(guang)州展示其(qi)專利產品電(dian)(dian)解(jie)腐蝕打(da)標(biao)(biao)(biao)機，其(qi)原理及操作(zuo)方(fang)法(fa)與上述電(dian)(dian)解(jie)標(biao)(biao)(biao)印(yin)(yin)(yin)完全一致。
6. 多層次(ci)蝕刻法(fa)
多(duo)層次(ci)蝕(shi)刻法是通過系列(lie)的(de)(de)抗蝕(shi)涂膜和蝕(shi)刻步驟(zou)(zou)，獲得不銹(xiu)鋼表面不同蝕(shi)刻深度的(de)(de)花紋(wen)圖案的(de)(de)一種工(gong)藝方(fang)法。其工(gong)藝步驟(zou)(zou)為：
①. 在不(bu)銹鋼表(biao)面(mian)形成第一層(ceng)次的抗蝕膜，蝕刻、去膜；
②. 在上述(shu)不銹(xiu)鋼(gang)表面形成第二層次(ci)的抗蝕膜，再次(ci)蝕刻(ke)，去膜；
③. 最(zui)少有一部分第一層(ceng)次和第二(er)層(ceng)次的蝕(shi)刻(ke)(ke)圖(tu)紋(wen)(wen)互相覆(fu)蓋，使該處的表(biao)面被蝕(shi)刻(ke)(ke)兩次，形成不同蝕(shi)刻(ke)(ke)深(shen)度的多層(ceng)次花紋(wen)(wen)圖(tu)案。
