不銹鋼管作為油氣開采與運輸過程的重要器件而大量使用，對其進行質量檢測是不銹鋼管正常生產應用的前提。隨著鋼管連軋工藝的發展鋼管，最大生產節奏達到960支／h，在線檢測最高要求速度達到3m／s，與此相對應的漏磁檢測系統的運行速度也相繼提高。其中，對不銹鋼管缺陷進行精確而不遺漏的標記是檢測結果有效性的重要前提，對缺陷的復查和尋找，以及不銹鋼管的后處理工藝安排具有重要作用。所以，在鋼管高速檢測過程中，缺陷標記系統是不可或缺的組成部分。
一、標記系(xi)統
假設(she)不銹(xiu)鋼(gang)管檢(jian)測(ce)最高檢(jian)測(ce)速度為3m／，缺陷標(biao)記分(fen)辨(bian)率dpx為20mm，則(ze)最高標(biao)記頻(pin)率f為
fpr=Vmax/dpx=150Hz(6-17)
也即，為使兩個(ge)相隔20mm的缺陷能夠相互獨立標識且沒有遺(yi)漏，標記系統每秒(miao)鐘需標記150次(ci)，才能滿足鋼管高速(su)漏磁檢(jian)測的標記要求。
標記系統工作流(liu)程如(ru)圖6-34所(suo)示(shi)。缺陷(xian)產生的(de)漏磁(ci)場被(bei)磁(ci)敏(min)傳感器(qi)獲取之(zhi)后(hou)轉換(huan)(huan)為電(dian)(dian)信(xin)號，然后(hou)由A-D采集卡轉換(huan)(huan)為數(shu)字信(xin)號，進(jin)入計算(suan)機進(jin)行(xing)信(xin)號后(hou)處理，輸出(chu)結果與設置(zhi)的(de)標準門限(xian)(xian)對比，如(ru)果信(xin)號幅值(zhi)超(chao)過門限(xian)(xian)，則判定(ding)為缺陷(xian)，并(bing)將缺陷(xian)信(xin)息(xi)傳輸給(gei)可編程序控(kong)制器(qi)PLC。系統根據標記系統與磁(ci)敏(min)傳感器(qi)之(zhi)間(jian)的(de)距離以及鋼管運行(xing)速度，經過準確延時(shi)之(zhi)后(hou)輸出(chu)高電(dian)(dian)平控(kong)制電(dian)(dian)磁(ci)閥工作，噴嘴持續噴出(chu)一段時(shi)間(jian)涂(tu)料之(zhi)后(hou)停止，并(bing)等(deng)待下一次(ci)缺陷(xian)信(xin)號到來，噴壺(hu)標識器(qi)如(ru)圖6-35所(suo)示(shi)。
為了控制缺陷標識(shi)精(jing)(jing)度(du)，標記系統需(xu)(xu)要(yao)精(jing)(jing)確(que)控制漏磁(ci)檢(jian)測探(tan)頭(tou)與(yu)噴嘴(zui)之(zhi)間的(de)距(ju)離，并根(gen)據運(yun)行(xing)速度(du)進行(xing)延時設置。對于(yu)(yu)漏磁(ci)陣列探(tan)頭(tou)檢(jian)測系統，標記系統在確(que)定探(tan)頭(tou)與(yu)噴嘴(zui)之(zhi)間的(de)距(ju)離時，需(xu)(xu)要(yao)精(jing)(jing)確(que)到獨立的(de)傳(chuan)感器單(dan)元，尤其是針對條(tiao)狀探(tan)頭(tou)。一(yi)般(ban)來說，條(tiao)狀探(tan)頭(tou)整體長度(du)大(da)于(yu)(yu)100mm，如果將其看成(cheng)一(yi)個整體，則標識(shi)誤(wu)差將大(da)于(yu)(yu)100mm。
一個(ge)噴(pen)壺(hu)的(de)響(xiang)應時(shi)間較(jiao)長(chang)，無(wu)法滿足標(biao)識(shi)系統的(de)噴(pen)標(biao)頻率要求。為此，一般(ban)采取陣列(lie)噴(pen)壺(hu)對缺陷進行標(biao)記，主要有兩種布置方(fang)案：其一，噴(pen)槍沿鋼(gang)管軸向陣列(lie)布置；其二，噴(pen)槍沿鋼(gang)管周(zhou)向陣列(lie)布置。
陣列標記系(xi)統(tong)相對于(yu)單噴(pen)嘴標記系(xi)統(tong)具有更高的標記速度和精度，具有以(yi)下(xia)特(te)點：
1）將缺陷信息分配給不同噴嘴進行工作，提高(gao)標識速度。
2）將連續缺陷信息分點標(biao)(biao)記，可以(yi)提高(gao)分辨率，以(yi)消除(chu)整片連續標(biao)(biao)記現(xian)象。
3）控制器接(jie)收到缺陷(xian)信息(xi)之(zhi)后，將控制空閑的噴嘴進(jin)行工(gong)作。
4）多個噴嘴需要循環使用，以保證(zheng)噴嘴通暢(chang)，防止(zhi)氣路阻塞和噴嘴堵(du)塞。
5）尋(xun)求最(zui)佳標(biao)識(shi)控制方案以提(ti)高標(biao)識(shi)速度和精度，并(bing)能對設備進行良好維護(hu)。
圖6-36所示(shi)為多噴(pen)嘴(zui)(zui)聯合(he)(he)(he)標(biao)記(ji)系統，主要(yao)由多噴(pen)嘴(zui)(zui)組合(he)(he)(he)、涂料壺(hu)、升降框架、控制(zhi)臺(tai)和升降電動機構成。多噴(pen)嘴(zui)(zui)系統采用8個噴(pen)嘴(zui)(zui)雙(shuang)排陣列組合(he)(he)(he)方式，由8個電磁閥獨立控制(zhi)和8個涂料壺(hu)單獨供涂料。由于(yu)不(bu)同管(guan)徑不(bu)銹(xiu)鋼(gang)管(guan)中(zhong)心高(gao)(gao)不(bu)同，從而造成噴(pen)嘴(zui)(zui)與鋼(gang)管(guan)之間的距離(li)發生改變。一般距離(li)越(yue)小(xiao)(xiao)，涂料行程(cheng)越(yue)小(xiao)(xiao)，標(biao)識斑(ban)點越(yue)小(xiao)(xiao)，速度越(yue)快(kuai)，因此(ci)，噴(pen)嘴(zui)(zui)中(zhong)心高(gao)(gao)需(xu)根(gen)據鋼(gang)管(guan)規格進(jin)行調整。
二、噴槍結構
噴槍作(zuo)為標(biao)記系統(tong)的執行機構，其結構很大程度上決(jue)定了標(biao)記系統(tong)的性能。考(kao)慮到標(biao)記工作(zuo)現(xian)場特殊環境，如高溫、強振動、多灰塵等，噴槍槍體做成如圖(tu)6-37所示的結構，它可以用于檢測(ce)過程中棒材(cai)(cai)(cai)、管材(cai)(cai)(cai)、線材(cai)(cai)(cai)、板材(cai)(cai)(cai)等金屬件的快速缺陷標(biao)記。
圖6-37所示的(de)噴槍具有(you)如下特點：
1）噴(pen)槍最小(xiao)口徑為(wei)0.3mm，最小(xiao)噴(pen)涂量(liang)可達3g／min，可以較(jiao)大程(cheng)度地(di)節約涂料。
2）使(shi)用圓形(xing)空氣(qi)帽可噴(pen)出圓形(xing)斑點，其形(xing)狀正好適用于缺陷(xian)標(biao)記。
3）帶有拉栓，維(wei)護清洗方便(bian)，配有物(wu)料循環功能，可以(yi)防止噴(pen)槍堵塞。
4）響應速度快，只需40ms便可實現啟閉，這(zhe)是實現高速標記(ji)的(de)關鍵。
三、噴標控制
缺(que)陷標(biao)記(ji)(ji)(ji)是不銹鋼管檢測結果(guo)的直接體現(xian)，高(gao)(gao)(gao)精(jing)(jing)度和高(gao)(gao)(gao)分辨(bian)率是標(biao)記(ji)(ji)(ji)系統的重要性能指標(biao)。高(gao)(gao)(gao)精(jing)(jing)度體現(xian)在(zai)標(biao)記(ji)(ji)(ji)位(wei)置(zhi)與(yu)缺(que)陷位(wei)置(zhi)形成精(jing)(jing)確的空間(jian)對應；高(gao)(gao)(gao)分辨(bian)率體現(xian)為(wei)缺(que)陷標(biao)記(ji)(ji)(ji)斑點有效而(er)且(qie)較小，避免大(da)片連續(xu)標(biao)記(ji)(ji)(ji)造成缺(que)陷難以辨(bian)識；而(er)且(qie)兩者都(dou)必(bi)須(xu)建(jian)立在(zai)無漏標(biao)記(ji)(ji)(ji)的基礎(chu)之上(shang)。高(gao)(gao)(gao)速標(biao)記(ji)(ji)(ji)系統的實現(xian)基礎(chu)為(wei)高(gao)(gao)(gao)效的控制方(fang)案和策略，根(gen)據缺(que)陷信號進行合理有效的標(biao)記(ji)(ji)(ji)，可(ke)使后處理工(gong)藝更加方(fang)便快(kuai)捷，以及(ji)時反饋(kui)鋼管生產工(gong)藝中(zhong)的缺(que)陷。
1. 控制(zhi)方法
標記(ji)(ji)系(xi)統(tong)將涂(tu)料(liao)從料(liao)筒運送到涂(tu)料(liao)壺，然后經(jing)噴(pen)嘴標記(ji)(ji)到鋼管上，其(qi)氣路(lu)工作原(yuan)理如圖(tu)6-38所示。
從圖(tu)6-38中(zhong)可(ke)以(yi)(yi)看(kan)出，噴嘴與磁(ci)敏傳感器(qi)之(zhi)間存(cun)在(zai)(zai)一(yi)(yi)(yi)定的(de)空間距離，即(ji)噴嘴在(zai)(zai)漏磁(ci)檢測探頭之(zhi)后。實際工作過程中(zhong)，要求標記斑點(dian)與缺(que)(que)陷(xian)位置(zhi)對應(ying)(ying)，并且斑點(dian)分(fen)辨率越(yue)高越(yue)好，以(yi)(yi)確定缺(que)(que)陷(xian)的(de)數量。由于(yu)兩者存(cun)在(zai)(zai)一(yi)(yi)(yi)定空間錯位，缺(que)(que)陷(xian)信號被處理和判斷后，不(bu)能(neng)立即(ji)噴標，必須(xu)延時(shi)(shi)一(yi)(yi)(yi)段(duan)(duan)時(shi)(shi)間，以(yi)(yi)保證缺(que)(que)陷(xian)位置(zhi)與標記斑點(dian)對應(ying)(ying)。為(wei)保證標記斑點(dian)具(ju)有可(ke)視性，涂料噴灑(sa)必須(xu)持續一(yi)(yi)(yi)段(duan)(duan)時(shi)(shi)間。而為(wei)了讓(rang)缺(que)(que)陷(xian)與缺(que)(que)陷(xian)之(zhi)間具(ju)有可(ke)分(fen)辨性，涂料噴灑(sa)時(shi)(shi)間又不(bu)能(neng)過長(chang)，標記系統控制(zhi)方案布局如圖(tu)6-39所示(shi)。
標記控(kong)(kong)制信息依(yi)次(ci)經(jing)過：檢測探頭、前(qian)置放大器、采集卡(ka)(ka)、計算機(ji)、控(kong)(kong)制器、電(dian)(dian)磁(ci)(ci)閥和(he)噴頭。檢測探頭將漏(lou)磁(ci)(ci)場量(liang)轉換為(wei)模(mo)擬量(liang)，并經(jing)A-D采集卡(ka)(ka)轉換為(wei)數(shu)字量(liang)，通(tong)過USB 總線輸入計算機(ji)，在(zai)計算機(ji)內進行(xing)相應(ying)計算和(he)判斷，如果(guo)信號超過報警門限，則(ze)輸出(chu)缺陷脈沖(chong)信號，通(tong)過以太網傳輸到控(kong)(kong)制器進行(xing)處理(li)。經(jing)控(kong)(kong)制器內部控(kong)(kong)制指令(ling)延時(shi)，輸出(chu)控(kong)(kong)制高電(dian)(dian)平并延時(shi)一段時(shi)間(jian)，控(kong)(kong)制電(dian)(dian)磁(ci)(ci)閥持(chi)續工作，使噴嘴噴灑涂料(liao)至鋼管表面，并與缺陷位(wei)置相對(dui)應(ying)。
標(biao)記過(guo)程中(zhong)，被檢(jian)測鋼管直線前進速度為(wei)vn，探頭(tou)中(zhong)心與噴(pen)嘴(zui)之間(jian)的(de)距離為(wei)Lpr，則缺陷從探頭(tou)處運動到(dao)噴(pen)嘴(zui)位置的(de)時間(jian)。為使標記斑點與缺(que)(que)(que)陷(xian)位(wei)置盡量重合，從(cong)漏磁(ci)場處獲取信號開(kai)始到(dao)涂料噴(pen)灑至(zhi)(zhi)鋼管(guan)表(biao)(biao)面為止，該信號傳(chuan)輸(shu)時(shi)間(jian)(jian)應該與缺(que)(que)(que)陷(xian)運動(dong)時(shi)間(jian)(jian)t相等，其(qi)包括：漏磁(ci)信號從(cong)鋼管(guan)缺(que)(que)(que)陷(xian)處傳(chuan)輸(shu)至(zhi)(zhi)采集(ji)卡的(de)(de)(de)時(shi)間(jian)(jian)t1，信號從(cong)采集(ji)卡通過(guo)USB總線(xian)傳(chuan)輸(shu)到(dao)計算機的(de)(de)(de)時(shi)間(jian)(jian)t2，計算機內信號處理過(guo)程時(shi)間(jian)(jian)，缺(que)(que)(que)陷(xian)信號經以(yi)太網(wang)進入可編程序控(kong)制器(qi)的(de)(de)(de)時(shi)間(jian)(jian)t4，控(kong)制器(qi)延時(shi)時(shi)間(jian)(jian)ts，控(kong)制器(qi)輸(shu)出信號至(zhi)(zhi)電磁(ci)閥(fa)的(de)(de)(de)時(shi)間(jian)(jian)t6，電磁(ci)動(dong)作時(shi)間(jian)(jian)t，以(yi)及涂料從(cong)噴(pen)嘴(zui)噴(pen)灑到(dao)鋼管(guan)表(biao)(biao)面的(de)(de)(de)時(shi)間(jian)(jian)t8，并(bing)滿(man)足以(yi)下(xia)關系式(shi)
t =t1+t2 +t3+t4+ts+t6+t7+t8 (6-19)
式（6-19）表(biao)明，缺陷(xian)產生(sheng)的(de)(de)(de)漏磁信(xin)號(hao)從缺陷(xian)處被采(cai)集到至最后(hou)涂(tu)料(liao)(liao)噴(pen)灑到鋼(gang)管(guan)(guan)表(biao)面(mian)經歷了一個復雜的(de)(de)(de)信(xin)息傳(chuan)(chuan)遞過程。其中(zhong)(zhong)，電信(xin)號(hao)傳(chuan)(chuan)輸(shu)時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)、USB總線傳(chuan)(chuan)輸(shu)時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)以及以太網傳(chuan)(chuan)輸(shu)時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)可忽略不計，信(xin)號(hao)處理時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)與(yu)評判算法、數據量(liang)和計算機配置有關，一般(ban)用(yong)時(shi)(shi)(shi)(shi)也較(jiao)短。但從電磁閥開始動作到涂(tu)料(liao)(liao)噴(pen)灑到鋼(gang)管(guan)(guan)表(biao)面(mian)的(de)(de)(de)時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)較(jiao)長，這主要(yao)與(yu)噴(pen)嘴(zui)(zui)噴(pen)腔內氣(qi)壓大小以及噴(pen)嘴(zui)(zui)與(yu)鋼(gang)管(guan)(guan)表(biao)面(mian)之(zhi)(zhi)間(jian)(jian)(jian)(jian)的(de)(de)(de)距(ju)離有關。一般(ban)情(qing)況(kuang)下，噴(pen)嘴(zui)(zui)與(yu)鋼(gang)管(guan)(guan)表(biao)面(mian)距(ju)離越(yue)近，涂(tu)料(liao)(liao)噴(pen)灑時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)越(yue)短，斑點就越(yue)小。因此(ci)，噴(pen)嘴(zui)(zui)中(zhong)(zhong)心高(gao)度必須(xu)可調(diao)(diao)，當更換鋼(gang)管(guan)(guan)規格時(shi)(shi)(shi)(shi)，通過調(diao)(diao)整(zheng)噴(pen)嘴(zui)(zui)與(yu)鋼(gang)管(guan)(guan)表(biao)面(mian)之(zhi)(zhi)間(jian)(jian)(jian)(jian)的(de)(de)(de)距(ju)離來實現最好的(de)(de)(de)標記(ji)效果。上述所有時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)中(zhong)(zhong)，除了控(kong)制器延時(shi)(shi)(shi)(shi)時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)ts，其余(yu)時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)基本為定(ding)值，在調(diao)(diao)整(zheng)鋼(gang)管(guan)(guan)運行速度時(shi)(shi)(shi)(shi)，延時(shi)(shi)(shi)(shi)參數t，需要(yao)根據新的(de)(de)(de)檢測(ce)速度進行調(diao)(diao)整(zheng)。
如圖6-40所示，可將整個(ge)標(biao)(biao)(biao)記過程分為(wei)三個(ge)階段：第一階段，磁敏元件拾(shi)取到缺陷(xian)漏磁場，并(bing)(bing)將其轉換為(wei)電信號；第二階段，控(kong)制器獲取缺陷(xian)標(biao)(biao)(biao)記信號，并(bing)(bing)運(yun)行(xing)(xing)延(yan)時指(zhi)(zhi)令；第三個(ge)階段，延(yan)時結束，控(kong)制器輸出控(kong)制指(zhi)(zhi)令給電磁閥(fa)執行(xing)(xing)標(biao)(biao)(biao)記動作，噴嘴(zui)噴灑涂料。
2. 控制策略(lve)
單(dan)缺(que)陷單(dan)噴(pen)嘴模型控制器輸(shu)入(ru)參數包括：圖6-40 缺(que)陷標(biao)(biao)記延(yan)(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)工作原理(li)缺(que)陷脈(mo)沖信(xin)號、標(biao)(biao)記開始延(yan)(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)t和標(biao)(biao)記持(chi)續(xu)延(yan)(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)時(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)T，輸(shu)出參數為標(biao)(biao)識輸(shu)出。控制器采用周期(qi)上升沿(yan)獲(huo)取法，定期(qi)獲(huo)取缺(que)陷信(xin)號，然后根據設置的(de)兩個延(yan)(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)參數進(jin)行延(yan)(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)并輸(shu)出給電磁閥(fa)，內部(bu)工作時(shi)(shi)(shi)(shi)序如圖6-41所示。
當不(bu)銹(xiu)鋼(gang)管(guan)上(shang)出現(xian)連續缺(que)陷(xian)(xian)時，會(hui)出現(xian)以下(xia)情況：前一個缺(que)陷(xian)(xian)還(huan)未開(kai)始標記(ji)(ji)或者還(huan)未標記(ji)(ji)完(wan)成，又出現(xian)新的(de)(de)缺(que)陷(xian)(xian)，則會(hui)產生新的(de)(de)缺(que)陷(xian)(xian)被(bei)遺(yi)失標記(ji)(ji)的(de)(de)狀況。所以，為達到所有缺(que)陷(xian)(xian)都能準確標識而不(bu)出現(xian)遺(yi)漏，需要設(she)置多個參數(shu)來儲(chu)存(cun)缺(que)陷(xian)(xian)信息，并按(an)照先進(jin)先出的(de)(de)原則進(jin)行標記(ji)(ji)。為此，設(she)置N個定(ding)時器，每個定(ding)時器輸出為Out，多個電(dian)磁閥工作(zuo)時序如(ru)圖6-42所示。
整個定時(shi)器系統遵(zun)循以(yi)下規則：
1）如果定(ding)時器i沒有工(gong)作，則由(you)i定(ding)時器執行延(yan)時指(zhi)令。
2）如果定(ding)時器(qi)i正在執(zhi)行延時指令，則由定(ding)時器(qi)i＋1進行延時。
3）系統(tong)輸(shu)出為所(suo)有(you)定時器輸(shu)出的疊加(Out=Outl +Out2 +··+OutN)。
根據上述設定原(yuan)則，如(ru)果上一(yi)個缺(que)陷被捕(bu)獲但還(huan)未輸出，緊(jin)接著又出現一(yi)個缺(que)陷脈(mo)沖(chong)，系統將對缺(que)陷信號進(jin)行保(bao)持。從(cong)而當出現連續缺(que)陷時，系統便會全部捕(bu)捉(zhuo)，而不會遺漏。其執行流程和結果如(ru)圖6-43所示。
在(zai)如圖(tu)6-43所(suo)示過程中，一個(ge)(ge)標(biao)(biao)記(ji)周期內連(lian)續(xu)(xu)(xu)出現三(san)個(ge)(ge)缺(que)(que)陷(xian)，分別(bie)由三(san)個(ge)(ge)定(ding)時(shi)器進(jin)行上(shang)升沿捕獲，然(ran)后分別(bie)延時(shi)，共同(tong)輸出，因(yin)此三(san)個(ge)(ge)連(lian)續(xu)(xu)(xu)缺(que)(que)陷(xian)點的標(biao)(biao)記(ji)效果為一條連(lian)續(xu)(xu)(xu)的標(biao)(biao)記(ji)線，而不(bu)會(hui)出現遺(yi)漏(lou)(lou)標(biao)(biao)記(ji)的情況。然(ran)而，不(bu)同(tong)位置的缺(que)(que)陷(xian)產生了一條連(lian)續(xu)(xu)(xu)標(biao)(biao)記(ji)線，雖然(ran)沒有出現遺(yi)漏(lou)(lou)，但是標(biao)(biao)記(ji)分辨(bian)率降低了，遺(yi)失了精(jing)確(que)的對(dui)應關系。為提(ti)高標(biao)(biao)記(ji)精(jing)確(que)度，將條狀探頭內部檢測元件獨立(li)分類，分別(bie)設(she)置不(bu)同(tong)的延時(shi)周期，并采用多(duo)噴嘴進(jin)行標(biao)(biao)記(ji)，多(duo)噴嘴標(biao)(biao)記(ji)控制模型如圖(tu)6-44所(suo)示。
多(duo)(duo)噴(pen)嘴(zui)標記模(mo)型是一個多(duo)(duo)輸入多(duo)(duo)輸出(chu)的控制模(mo)型，其(qi)輸出(chu)主要為8個噴(pen)嘴(zui)，而(er)其(qi)輸入主要有如下(xia)三類(lei)：
1）缺陷脈(mo)沖：不(bu)同檢測(ce)元件發出的(de)缺陷脈(mo)沖，同一檢測(ce)元件不(bu)同時(shi)刻發出的(de)缺陷脈(mo)沖。
2）標記開始延(yan)時(shi)：由于不同位置檢測元件(jian)與噴嘴之間(jian)(jian)的距離(li)不同，因而延(yan)時(shi)時(shi)間(jian)(jian)不同。
3）標記持續(xu)延時：所(suo)有(you)噴嘴(zui)采用相(xiang)同的(de)標記持續(xu)延時時間，從而產(chan)生相(xiang)同大小的(de)斑點。
不(bu)(bu)同(tong)檢測(ce)元件對應不(bu)(bu)同(tong)的延時器(qi)，并產生不(bu)(bu)同(tong)的控制(zhi)指(zhi)令去驅動(dong)8個(ge)噴(pen)嘴(zui)。整個(ge)控制(zhi)過程遵循(xun)以(yi)下原則：
1）噴(pen)嘴(zui)循環(huan)使(shi)用(yong)，上一(yi)次控制(zhi)噴(pen)嘴(zui)i進(jin)行標記，下次將控制(zhi)噴(pen)嘴(zui)i＋1工作；如果是第8號(hao)噴(pen)嘴(zui)正在工作，則下一(yi)個由(you)第1號(hao)噴(pen)嘴(zui)工作。保證每個噴(pen)嘴(zui)循環(huan)使(shi)用(yong)，防止油路(lu)堵塞。
2）每(mei)個檢測元(yuan)件獨立設置N個定時器，并保存相同的標記開始延時參數。
3）由于噴(pen)嘴分兩(liang)排，如果正在指定后排噴(pen)嘴工(gong)作，則后排噴(pen)嘴自動延長相應(ying)時間再進行標(biao)記。
3. 標記誤差
在不(bu)銹鋼(gang)管(guan)(guan)漏磁(ci)(ci)檢(jian)測中，通常施加周向局(ju)部磁(ci)(ci)化激發(fa)縱向缺陷漏磁(ci)(ci)場。為實現鋼(gang)管(guan)(guan)全(quan)覆蓋檢(jian)測，探頭與鋼(gang)管(guan)(guan)之間往往通過形成(cheng)螺旋掃查方式完成(cheng)全(quan)覆蓋檢(jian)測。同樣，噴(pen)嘴在鋼(gang)管(guan)(guan)表面形成(cheng)的軌跡也為螺旋線。
假設不(bu)銹(xiu)鋼管(guan)外徑為(wei)d1，掃(sao)查(cha)螺距(ju)(ju)為(wei)P，檢(jian)測(ce)探(tan)(tan)頭為(wei)雙探(tan)(tan)頭，探(tan)(tan)頭有(you)效檢(jian)測(ce)長度為(wei)l，標(biao)記(ji)系(xi)統(tong)為(wei)單標(biao)記(ji)系(xi)統(tong)，探(tan)(tan)頭中心(xin)與標(biao)記(ji)系(xi)統(tong)軸向距(ju)(ju)離(li)為(wei)Lpr，系(xi)統(tong)理論標(biao)記(ji)誤差為(wei)leror。探(tan)(tan)頭及(ji)標(biao)記(ji)器布置(zhi)如圖6-45所(suo)示(shi)。
將不(bu)銹鋼管沿軸線展開，得(de)到探頭掃查平面(mian)圖(tu)（圖(tu)6-46），并獲(huo)得(de)不(bu)同情況下的標記誤差(cha)leror，見表6-5。
通過表6-5可以看出，標記(ji)系統的確(que)存在理論(lun)標記(ji)誤(wu)(wu)差(cha)。提(ti)高(gao)標記(ji)精(jing)度的方法(fa)主要有兩種，一種方法(fa)是增加標記(ji)器(qi)數量(liang)，另一種方法(fa)是提(ti)高(gao)條狀探(tan)頭(tou)內部傳感元件(jian)的分辨率(lv)，按照(zhao)探(tan)頭(tou)內部檢測(ce)元件(jian)的空間(jian)位置采用獨立的延時參(can)數來降低(di)標記(ji)誤(wu)(wu)差(cha)。如果將噴壺沿(yan)著圓周均勻布置N1個噴嘴，并且(qie)將條狀探(tan)頭(tou)內部檢測(ce)元件(jian)分為2等份，則相應(ying)的標記(ji)誤(wu)(wu)差(cha)最大值為： V'emor=lerror/N1N2(6-21)
