不銹鋼管作為油氣開采與運輸過程的重要器件而大量使用,對其進行質量檢測是不銹鋼管正常生產應用的前提。隨著鋼管連軋工藝的發展鋼管,最大生產節奏達到960支/h,在線檢測最高要求速度達到3m/s,與此相對應的漏磁檢測系統的運行速度也相繼提高。其中,對不銹鋼管缺陷進行精確而不遺漏的標記是檢測結果有效性的重要前提,對缺陷的復查和尋找,以及不銹鋼管的后處理工藝安排具有重要作用。所以,在鋼管高速檢測過程中,缺陷標記系統是不可或缺的組成部分。


一、標記(ji)系統


假(jia)設不銹(xiu)鋼(gang)管檢測(ce)最高檢測(ce)速(su)度為(wei)3m/,缺(que)陷標(biao)記分辨率(lv)dpx為(wei)20mm,則(ze)最高標(biao)記頻率(lv)f為(wei)


  fpr=Vmax/dpx=150Hz(6-17)


  也即,為使(shi)兩個相隔20mm的缺陷(xian)能(neng)夠相互獨(du)立(li)標識且沒(mei)有(you)遺漏(lou),標記系統每(mei)秒鐘(zhong)需標記150次,才能(neng)滿足鋼管(guan)高速漏(lou)磁檢測的標記要(yao)求(qiu)。


  標(biao)記(ji)(ji)系(xi)統(tong)工作流程如(ru)圖6-34所示(shi)。缺(que)陷產生(sheng)的(de)漏磁(ci)場被(bei)磁(ci)敏傳(chuan)感器(qi)獲(huo)取(qu)之(zhi)后(hou)轉換為電信(xin)號,然后(hou)由A-D采集卡轉換為數字信(xin)號,進(jin)入計(ji)算機進(jin)行(xing)信(xin)號后(hou)處理,輸(shu)出(chu)(chu)(chu)結(jie)果(guo)(guo)與設置的(de)標(biao)準門限(xian)對比,如(ru)果(guo)(guo)信(xin)號幅值(zhi)超過(guo)門限(xian),則判定(ding)為缺(que)陷,并(bing)將(jiang)缺(que)陷信(xin)息傳(chuan)輸(shu)給可編程序控(kong)制(zhi)器(qi)PLC。系(xi)統(tong)根據標(biao)記(ji)(ji)系(xi)統(tong)與磁(ci)敏傳(chuan)感器(qi)之(zhi)間的(de)距離以及鋼(gang)管運行(xing)速度,經過(guo)準確延時(shi)之(zhi)后(hou)輸(shu)出(chu)(chu)(chu)高電平控(kong)制(zhi)電磁(ci)閥工作,噴(pen)嘴持續噴(pen)出(chu)(chu)(chu)一段時(shi)間涂料之(zhi)后(hou)停止,并(bing)等待下一次缺(que)陷信(xin)號到來,噴(pen)壺標(biao)識器(qi)如(ru)圖6-35所示(shi)。


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  為了控(kong)制缺陷標識精度(du),標記系統需要精確(que)控(kong)制漏(lou)磁(ci)檢(jian)測(ce)探頭與(yu)噴(pen)嘴之間(jian)的距(ju)離(li),并(bing)根據運行速度(du)進行延(yan)時設置。對(dui)于漏(lou)磁(ci)陣列探頭檢(jian)測(ce)系統,標記系統在確(que)定探頭與(yu)噴(pen)嘴之間(jian)的距(ju)離(li)時,需要精確(que)到獨立(li)的傳感器單元(yuan),尤其是針對(dui)條狀探頭。一(yi)般來說,條狀探頭整(zheng)體長度(du)大于100mm,如果(guo)將其看成(cheng)一(yi)個整(zheng)體,則標識誤差將大于100mm。


  一(yi)個噴(pen)壺的響應(ying)時(shi)間較長,無(wu)法滿足標識系統的噴(pen)標頻率要求。為此,一(yi)般(ban)采取(qu)陣列噴(pen)壺對缺陷進行(xing)標記,主(zhu)要有(you)兩種布(bu)置方案:其一(yi),噴(pen)槍沿(yan)鋼(gang)管(guan)軸向(xiang)陣列布(bu)置;其二(er),噴(pen)槍沿(yan)鋼(gang)管(guan)周(zhou)向(xiang)陣列布(bu)置。


  陣(zhen)列標記(ji)(ji)系統相對(dui)于單噴嘴標記(ji)(ji)系統具有(you)更高的標記(ji)(ji)速度和精度,具有(you)以下特點:


  1)將缺陷信息分配(pei)給不同噴嘴進行工作,提高標識速度。


  2)將(jiang)連續缺陷信息(xi)分(fen)點標(biao)記(ji),可(ke)以提高分(fen)辨率,以消除整片連續標(biao)記(ji)現(xian)象。


  3)控制(zhi)器接收(shou)到缺(que)陷信息(xi)之(zhi)后,將控制(zhi)空閑的噴(pen)嘴進行工作。


  4)多個噴嘴(zui)需要循環使(shi)用,以保(bao)證噴嘴(zui)通(tong)暢,防止氣路阻塞和噴嘴(zui)堵塞。


  5)尋求最佳(jia)標識控制方案以提高標識速度和精度,并能(neng)對(dui)設備進(jin)行良好(hao)維(wei)護(hu)。


  圖6-36所示為多(duo)噴(pen)嘴(zui)聯合標記系統(tong),主(zhu)要由(you)多(duo)噴(pen)嘴(zui)組合、涂(tu)(tu)料壺、升降框架、控制(zhi)臺和升降電動機構成(cheng)。多(duo)噴(pen)嘴(zui)系統(tong)采用8個(ge)噴(pen)嘴(zui)雙排陣列(lie)組合方式,由(you)8個(ge)電磁(ci)閥獨立控制(zhi)和8個(ge)涂(tu)(tu)料壺單獨供涂(tu)(tu)料。由(you)于不(bu)同(tong)管徑不(bu)銹鋼(gang)(gang)管中(zhong)心(xin)高(gao)不(bu)同(tong),從而造成(cheng)噴(pen)嘴(zui)與(yu)鋼(gang)(gang)管之間的(de)距(ju)離發生改變(bian)。一(yi)般(ban)距(ju)離越(yue)(yue)小,涂(tu)(tu)料行(xing)程越(yue)(yue)小,標識斑點越(yue)(yue)小,速度越(yue)(yue)快,因(yin)此(ci),噴(pen)嘴(zui)中(zhong)心(xin)高(gao)需根(gen)據(ju)鋼(gang)(gang)管規(gui)格進行(xing)調整。


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二(er)、噴(pen)槍結構


  噴(pen)槍作(zuo)為標(biao)記系(xi)統的(de)執(zhi)行機構(gou),其結構(gou)很(hen)大程度(du)上(shang)決定了標(biao)記系(xi)統的(de)性能(neng)。考慮到標(biao)記工作(zuo)現場特殊環(huan)境,如(ru)高溫、強振(zhen)動、多灰塵(chen)等,噴(pen)槍槍體做成如(ru)圖(tu)6-37所示的(de)結構(gou),它可以用(yong)于檢測(ce)過程中棒材(cai)(cai)、管材(cai)(cai)、線材(cai)(cai)、板材(cai)(cai)等金屬件的(de)快速缺陷標(biao)記。


 圖6-37所示的(de)噴(pen)槍具(ju)有如下特點:


  1)噴槍(qiang)最(zui)小口徑(jing)為0.3mm,最(zui)小噴涂量(liang)可(ke)達(da)3g/min,可(ke)以較(jiao)大程度(du)地節約涂料。


  2)使(shi)用圓(yuan)形(xing)空氣帽可噴出(chu)圓(yuan)形(xing)斑點,其(qi)形(xing)狀(zhuang)正好適用于缺陷(xian)標(biao)記。


  3)帶有拉栓,維護清洗方便(bian),配有物料(liao)循環功能,可以防止噴槍堵塞。


  4)響應(ying)速(su)度快(kuai),只需40ms便(bian)可實現啟閉,這是實現高(gao)速(su)標記的關鍵。


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三、噴標控制(zhi)


  缺陷(xian)標(biao)記(ji)(ji)是不(bu)銹(xiu)鋼管檢(jian)測(ce)結(jie)果的(de)(de)(de)直(zhi)接體現(xian)(xian),高(gao)精(jing)度(du)和高(gao)分辨(bian)率是標(biao)記(ji)(ji)系統(tong)(tong)的(de)(de)(de)重要性能指標(biao)。高(gao)精(jing)度(du)體現(xian)(xian)在標(biao)記(ji)(ji)位(wei)置(zhi)與(yu)缺陷(xian)位(wei)置(zhi)形成精(jing)確(que)的(de)(de)(de)空間(jian)對應;高(gao)分辨(bian)率體現(xian)(xian)為缺陷(xian)標(biao)記(ji)(ji)斑點(dian)有(you)效而且(qie)較小,避(bi)免大(da)片(pian)連續標(biao)記(ji)(ji)造(zao)成缺陷(xian)難以辨(bian)識;而且(qie)兩者都必須建立在無漏標(biao)記(ji)(ji)的(de)(de)(de)基(ji)礎(chu)之上(shang)。高(gao)速標(biao)記(ji)(ji)系統(tong)(tong)的(de)(de)(de)實(shi)現(xian)(xian)基(ji)礎(chu)為高(gao)效的(de)(de)(de)控制方案和策略(lve),根(gen)據缺陷(xian)信號進行合理有(you)效的(de)(de)(de)標(biao)記(ji)(ji),可使后處理工藝更加方便快捷,以及時反(fan)饋鋼管生產工藝中的(de)(de)(de)缺陷(xian)。


 1. 控制方法


   標(biao)記系統將涂(tu)料從料筒運送到涂(tu)料壺,然(ran)后經噴嘴(zui)標(biao)記到鋼(gang)管上,其(qi)氣路工作原理如圖6-38所示。


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   從圖(tu)6-38中(zhong)可(ke)以看出,噴(pen)嘴與(yu)(yu)磁(ci)敏傳感器之(zhi)間(jian)(jian)存在一定的空間(jian)(jian)距離(li),即(ji)噴(pen)嘴在漏磁(ci)檢測(ce)探頭(tou)之(zhi)后。實際工作過程(cheng)中(zhong),要求標記(ji)(ji)斑(ban)點與(yu)(yu)缺(que)(que)陷位(wei)(wei)置(zhi)對應(ying),并且斑(ban)點分辨(bian)率越高(gao)越好,以確定缺(que)(que)陷的數量(liang)。由于(yu)兩(liang)者存在一定空間(jian)(jian)錯(cuo)位(wei)(wei),缺(que)(que)陷信號被(bei)處(chu)理和判斷后,不能(neng)立(li)即(ji)噴(pen)標,必須延時(shi)(shi)一段時(shi)(shi)間(jian)(jian),以保(bao)證缺(que)(que)陷位(wei)(wei)置(zhi)與(yu)(yu)標記(ji)(ji)斑(ban)點對應(ying)。為保(bao)證標記(ji)(ji)斑(ban)點具(ju)有可(ke)視性,涂料(liao)噴(pen)灑必須持續一段時(shi)(shi)間(jian)(jian)。而為了讓缺(que)(que)陷與(yu)(yu)缺(que)(que)陷之(zhi)間(jian)(jian)具(ju)有可(ke)分辨(bian)性,涂料(liao)噴(pen)灑時(shi)(shi)間(jian)(jian)又不能(neng)過長,標記(ji)(ji)系(xi)統控制方案(an)布局如圖(tu)6-39所示(shi)。


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   標記控(kong)制(zhi)信(xin)息依次經(jing)(jing)過:檢測探頭、前置放大器(qi)、采(cai)集卡(ka)、計(ji)(ji)算(suan)機、控(kong)制(zhi)器(qi)、電磁(ci)閥(fa)和噴頭。檢測探頭將漏磁(ci)場(chang)量(liang)轉換為模擬(ni)量(liang),并經(jing)(jing)A-D采(cai)集卡(ka)轉換為數字量(liang),通過USB 總線輸(shu)(shu)入計(ji)(ji)算(suan)機,在計(ji)(ji)算(suan)機內進行(xing)相應計(ji)(ji)算(suan)和判斷(duan),如(ru)果信(xin)號(hao)超過報警(jing)門(men)限,則輸(shu)(shu)出缺(que)陷(xian)脈(mo)沖信(xin)號(hao),通過以太(tai)網傳輸(shu)(shu)到控(kong)制(zhi)器(qi)進行(xing)處理。經(jing)(jing)控(kong)制(zhi)器(qi)內部控(kong)制(zhi)指令延(yan)時(shi),輸(shu)(shu)出控(kong)制(zhi)高電平并延(yan)時(shi)一段時(shi)間,控(kong)制(zhi)電磁(ci)閥(fa)持(chi)續工作,使噴嘴噴灑涂(tu)料至鋼管表面,并與缺(que)陷(xian)位置相對(dui)應。


   標記過(guo)程(cheng)中(zhong),被(bei)檢測(ce)鋼管直線前進速度為(wei)vn,探(tan)頭(tou)(tou)中(zhong)心(xin)與噴嘴之間的距離為(wei)Lpr,則缺陷(xian)從(cong)探(tan)頭(tou)(tou)處運動(dong)到噴嘴位置的時間。為使(shi)標(biao)記斑(ban)點與(yu)缺陷位(wei)置盡量重合,從(cong)漏(lou)磁(ci)場處獲取信(xin)號開始(shi)到涂料噴(pen)(pen)灑至鋼管(guan)表面(mian)為止,該信(xin)號傳輸時(shi)(shi)間(jian)應(ying)該與(yu)缺陷運動(dong)時(shi)(shi)間(jian)t相等,其包括(kuo):漏(lou)磁(ci)信(xin)號從(cong)鋼管(guan)缺陷處傳輸至采(cai)集卡的(de)(de)時(shi)(shi)間(jian)t1,信(xin)號從(cong)采(cai)集卡通過USB總線傳輸到計(ji)算機的(de)(de)時(shi)(shi)間(jian)t2,計(ji)算機內信(xin)號處理過程時(shi)(shi)間(jian),缺陷信(xin)號經以(yi)太網(wang)進入可編程序控(kong)制器的(de)(de)時(shi)(shi)間(jian)t4,控(kong)制器延(yan)時(shi)(shi)時(shi)(shi)間(jian)ts,控(kong)制器輸出信(xin)號至電(dian)磁(ci)閥(fa)的(de)(de)時(shi)(shi)間(jian)t6,電(dian)磁(ci)動(dong)作時(shi)(shi)間(jian)t,以(yi)及涂料從(cong)噴(pen)(pen)嘴噴(pen)(pen)灑到鋼管(guan)表面(mian)的(de)(de)時(shi)(shi)間(jian)t8,并滿足以(yi)下關(guan)系式


  t =t1+t2 +t3+t4+ts+t6+t7+t8   (6-19)


  式(6-19)表(biao)明,缺(que)陷產生的漏磁信(xin)號從缺(que)陷處(chu)被采(cai)集到至最后涂(tu)料(liao)噴(pen)(pen)灑到鋼(gang)(gang)管(guan)(guan)表(biao)面經歷(li)了一個復(fu)雜(za)的信(xin)息傳(chuan)(chuan)遞過程。其(qi)中(zhong),電(dian)(dian)信(xin)號傳(chuan)(chuan)輸時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)、USB總線傳(chuan)(chuan)輸時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)以及以太網傳(chuan)(chuan)輸時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)可忽略不計(ji),信(xin)號處(chu)理時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)與(yu)(yu)評判算(suan)法(fa)、數(shu)據量(liang)和計(ji)算(suan)機(ji)配(pei)置有(you)關(guan),一般(ban)用時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)也較短(duan)。但(dan)從電(dian)(dian)磁閥開始動作到涂(tu)料(liao)噴(pen)(pen)灑到鋼(gang)(gang)管(guan)(guan)表(biao)面的時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)較長,這(zhe)主(zhu)要(yao)與(yu)(yu)噴(pen)(pen)嘴噴(pen)(pen)腔內氣壓大小(xiao)以及噴(pen)(pen)嘴與(yu)(yu)鋼(gang)(gang)管(guan)(guan)表(biao)面之間(jian)的距離有(you)關(guan)。一般(ban)情況下(xia),噴(pen)(pen)嘴與(yu)(yu)鋼(gang)(gang)管(guan)(guan)表(biao)面距離越(yue)近,涂(tu)料(liao)噴(pen)(pen)灑時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)越(yue)短(duan),斑點就越(yue)小(xiao)。因此,噴(pen)(pen)嘴中(zhong)心高度(du)必須可調(diao),當(dang)更換鋼(gang)(gang)管(guan)(guan)規格時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi),通過調(diao)整噴(pen)(pen)嘴與(yu)(yu)鋼(gang)(gang)管(guan)(guan)表(biao)面之間(jian)的距離來實(shi)現最好的標記效果。上述所有(you)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)中(zhong),除了控制器延(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)ts,其(qi)余時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)間(jian)基本為定值,在調(diao)整鋼(gang)(gang)管(guan)(guan)運行速度(du)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi),延(yan)時(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)參(can)數(shu)t,需(xu)要(yao)根據新的檢測(ce)速度(du)進行調(diao)整。


  如圖6-40所示,可將整(zheng)個標(biao)記過程分為三(san)個階(jie)(jie)段(duan):第一階(jie)(jie)段(duan),磁(ci)(ci)敏(min)元件(jian)拾取到缺(que)陷漏(lou)磁(ci)(ci)場,并將其轉換為電(dian)(dian)信號;第二(er)階(jie)(jie)段(duan),控制(zhi)器獲(huo)取缺(que)陷標(biao)記信號,并運行延(yan)時指(zhi)令(ling)(ling);第三(san)個階(jie)(jie)段(duan),延(yan)時結束,控制(zhi)器輸(shu)出控制(zhi)指(zhi)令(ling)(ling)給電(dian)(dian)磁(ci)(ci)閥執(zhi)行標(biao)記動作(zuo),噴嘴噴灑涂料。


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 2. 控制策略


   單(dan)缺(que)陷(xian)單(dan)噴嘴模型控(kong)制器輸(shu)(shu)入參數(shu)包括(kuo):圖(tu)6-40 缺(que)陷(xian)標記(ji)(ji)(ji)延時(shi)工(gong)(gong)作(zuo)原理缺(que)陷(xian)脈(mo)沖信號、標記(ji)(ji)(ji)開始延時(shi)時(shi)間t和標記(ji)(ji)(ji)持續延時(shi)時(shi)間T,輸(shu)(shu)出參數(shu)為標識輸(shu)(shu)出。控(kong)制器采(cai)用周期上(shang)升沿獲取(qu)法,定期獲取(qu)缺(que)陷(xian)信號,然后根據設置的(de)兩個延時(shi)參數(shu)進行延時(shi)并輸(shu)(shu)出給電磁閥(fa),內部工(gong)(gong)作(zuo)時(shi)序如圖(tu)6-41所示。


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  當不銹(xiu)鋼管上出(chu)(chu)(chu)現(xian)連(lian)續缺(que)陷(xian)時(shi),會(hui)出(chu)(chu)(chu)現(xian)以下(xia)情況:前一(yi)個(ge)缺(que)陷(xian)還未開(kai)始標(biao)(biao)記或者(zhe)還未標(biao)(biao)記完成,又(you)出(chu)(chu)(chu)現(xian)新(xin)的缺(que)陷(xian),則(ze)會(hui)產生新(xin)的缺(que)陷(xian)被遺失標(biao)(biao)記的狀況。所以,為達到(dao)所有缺(que)陷(xian)都能準確標(biao)(biao)識而不出(chu)(chu)(chu)現(xian)遺漏,需要(yao)設置(zhi)多(duo)個(ge)參數(shu)來(lai)儲存缺(que)陷(xian)信息,并(bing)按照(zhao)先(xian)進先(xian)出(chu)(chu)(chu)的原則(ze)進行標(biao)(biao)記。為此,設置(zhi)N個(ge)定時(shi)器,每(mei)個(ge)定時(shi)器輸出(chu)(chu)(chu)為Out,多(duo)個(ge)電磁閥工作時(shi)序如圖6-42所示。


  整個定(ding)時器系(xi)統遵(zun)循(xun)以下規則:


  1)如果定時(shi)器(qi)i沒有(you)工作,則由(you)i定時(shi)器(qi)執行延時(shi)指令(ling)。


  2)如果定時(shi)器i正在執行延(yan)時(shi)指令,則由定時(shi)器i+1進行延(yan)時(shi)。


  3)系統輸(shu)出(chu)為所有定時器輸(shu)出(chu)的疊加(Out=Outl +Out2 +··+OutN)。


  根據上述設定原則,如果(guo)上一(yi)個(ge)缺陷被捕獲但(dan)還未(wei)輸(shu)出,緊(jin)接(jie)著又出現一(yi)個(ge)缺陷脈(mo)沖,系統將對缺陷信號進行保持。從而當出現連續缺陷時(shi),系統便(bian)會全部捕捉(zhuo),而不會遺漏。其(qi)執(zhi)行流程和(he)結果(guo)如圖6-43所示。


  在如(ru)圖6-43所(suo)示(shi)過(guo)程中(zhong),一個(ge)標記(ji)周期內(nei)連(lian)續出現(xian)三個(ge)缺陷(xian)(xian),分(fen)(fen)別(bie)由三個(ge)定時器進(jin)行(xing)上升(sheng)沿捕獲,然后分(fen)(fen)別(bie)延(yan)時,共(gong)同輸出,因此三個(ge)連(lian)續缺陷(xian)(xian)點的標記(ji)效果為(wei)一條連(lian)續的標記(ji)線,而不會出現(xian)遺漏標記(ji)的情(qing)況。然而,不同位置的缺陷(xian)(xian)產生(sheng)了(le)一條連(lian)續標記(ji)線,雖然沒(mei)有出現(xian)遺漏,但是標記(ji)分(fen)(fen)辨率(lv)降低了(le),遺失(shi)了(le)精確的對應關系。為(wei)提高標記(ji)精確度,將條狀探(tan)頭內(nei)部(bu)檢測元件獨立分(fen)(fen)類,分(fen)(fen)別(bie)設(she)置不同的延(yan)時周期,并(bing)采用多噴嘴進(jin)行(xing)標記(ji),多噴嘴標記(ji)控制模型如(ru)圖6-44所(suo)示(shi)。



  多噴嘴標記模型是(shi)一個(ge)多輸(shu)入(ru)多輸(shu)出的控制模型,其(qi)(qi)輸(shu)出主要(yao)為8個(ge)噴嘴,而其(qi)(qi)輸(shu)入(ru)主要(yao)有(you)如下(xia)三類(lei):


  1)缺陷(xian)脈沖:不(bu)同檢測元件發出(chu)的缺陷(xian)脈沖,同一檢測元件不(bu)同時(shi)刻發出(chu)的缺陷(xian)脈沖。


  2)標記(ji)開(kai)始延(yan)時(shi):由于不同(tong)位置檢(jian)測元件與噴嘴之間(jian)的(de)距離不同(tong),因而延(yan)時(shi)時(shi)間(jian)不同(tong)。


  3)標(biao)記持(chi)續延時:所有噴嘴采用相同的(de)(de)標(biao)記持(chi)續延時時間,從而產生相同大小的(de)(de)斑點。


不同檢測元(yuan)件(jian)對應不同的(de)延時器,并(bing)產生不同的(de)控制指令(ling)去(qu)驅(qu)動(dong)8個噴嘴。整個控制過程遵循(xun)以(yi)下原則:


  1)噴(pen)嘴(zui)循(xun)環使(shi)用(yong),上一(yi)次(ci)(ci)控(kong)制噴(pen)嘴(zui)i進行標記(ji),下(xia)次(ci)(ci)將(jiang)控(kong)制噴(pen)嘴(zui)i+1工作;如果是第8號噴(pen)嘴(zui)正在工作,則下(xia)一(yi)個由第1號噴(pen)嘴(zui)工作。保證每(mei)個噴(pen)嘴(zui)循(xun)環使(shi)用(yong),防止油路堵塞。


  2)每個檢測元件獨立設置(zhi)N個定時(shi)器,并保存相同的標記開始延(yan)時(shi)參數。


  3)由(you)于噴(pen)嘴(zui)分兩(liang)排(pai),如果正(zheng)在指定后排(pai)噴(pen)嘴(zui)工作(zuo),則后排(pai)噴(pen)嘴(zui)自動延長(chang)相應時間再進行標(biao)記。


3. 標記誤差(cha)


  在不(bu)銹鋼(gang)管(guan)漏(lou)磁(ci)檢測中,通常施加周向局部磁(ci)化激(ji)發縱向缺陷漏(lou)磁(ci)場。為(wei)實現鋼(gang)管(guan)全覆(fu)蓋檢測,探(tan)頭與鋼(gang)管(guan)之間往(wang)往(wang)通過形(xing)成螺旋(xuan)(xuan)掃(sao)查方式完(wan)成全覆(fu)蓋檢測。同(tong)樣,噴嘴在鋼(gang)管(guan)表面形(xing)成的軌跡也為(wei)螺旋(xuan)(xuan)線。


  假(jia)設不(bu)銹(xiu)鋼管外徑為d1,掃(sao)查螺(luo)距(ju)為P,檢測探頭為雙探頭,探頭有效檢測長(chang)度為l,標記(ji)(ji)(ji)系(xi)統(tong)為單標記(ji)(ji)(ji)系(xi)統(tong),探頭中心與標記(ji)(ji)(ji)系(xi)統(tong)軸向(xiang)距(ju)離(li)為Lpr,系(xi)統(tong)理論標記(ji)(ji)(ji)誤差為leror。探頭及標記(ji)(ji)(ji)器布置如圖(tu)6-45所示。


  將不銹(xiu)鋼管沿軸線展(zhan)開,得到(dao)探頭掃查(cha)平面圖(圖6-46),并獲得不同情況(kuang)下的標記誤差leror,見表6-5。


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  通過表6-5可以(yi)看(kan)出,標(biao)記系統的確存(cun)在理論標(biao)記誤(wu)差(cha)。提(ti)高標(biao)記精(jing)度的方(fang)法主要有兩種(zhong),一種(zhong)方(fang)法是增加標(biao)記器數量,另一種(zhong)方(fang)法是提(ti)高條狀探頭內部傳感元件的分辨率(lv),按照探頭內部檢測元件的空間位(wei)置采用獨立的延時參數來降(jiang)低標(biao)記誤(wu)差(cha)。如果將(jiang)噴(pen)壺沿(yan)著圓周均勻布置N1個(ge)噴(pen)嘴,并且將(jiang)條狀探頭內部檢測元件分為(wei)(wei)2等(deng)份,則相應的標(biao)記誤(wu)差(cha)最大值為(wei)(wei): V'emor=lerror/N1N2(6-21)





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