不銹鋼表面浮雕精飾是活化腐蝕與多層電鍍的綜合加工,表面浮雕精飾后的金屬制品圖案清晰,光彩絢麗奪目,層次手感柔和。立體感強。富有金屬鞋刻效果。首先在制筆行業得到大批量應用,收到巨大的經濟效益。


消光(guang)鍍鉻(ge)底色鍍金或消光(guang)鍍鉻(ge)底色銀光(guang)浮雕工(gong)藝流程如(ru)下:


1. 機械磨光、拋光


  可按不銹(xiu)鋼拋光工藝進行。


  ①. 拋光表面要(yao)求:無(wu)麻(ma)點、硬絲路、沖拉模具痕及飛邊。


  ②. 金剛(gang)砂:磨(mo)光(guang)按表面光(guang)潔度需要選用(yong)300=、400#、500#金剛(gang)砂。


  ③. 拋(pao)(pao)(pao)光(guang)膏:磨光(guang)用(yong)黃拋(pao)(pao)(pao)光(guang)膏,拋(pao)(pao)(pao)光(guang)用(yong)綠拋(pao)(pao)(pao)光(guang)膏,拉(la)白光(guang)亮用(yong)白拋(pao)(pao)(pao)光(guang)膏+維(wei)也納(na)石灰。


  ④. 拋磨溫度:不宜(yi)過高,以免使不銹鋼金相結構改變。


2. 拉毛消光


 可用砂輪(lun)、皮帶(dai)車、噴(pen)砂、鋼絲拋盤及專用拉絲機進(jin)行拉毛。按不同要求進(jin)行消光處(chu)理。


3. 化學除油


磷酸三鈉(Na3 PO4·12H2O)  20~30g/L   、海鷗洗滌劑  2~3mL/L


碳酸鈉(Na2CO3)  10~15g/L 、溫度   90~100℃  、時間  10~30min


4. 水(shui)清洗(xi),并上掛具(ju)


5. 電(dian)化學(xue)除油(you)


氫氧化(hua)鈉(na)(NaOH)  10~15g/L  、 平(ping)平(ping)加(勻染(ran)劑)0.5~1.0g/L  、溫度  80~90℃  、時間  1~5min


磷酸三鈉(Na3PO4·12H2O)  20~25g/L  、陰極電流密度(DK)  1~3A/d㎡  、碳酸鈉(Na2CO3)  10~15g/L


6. 水清洗


7. 電(dian)解活化(hua)腐蝕


硫酸(H2SO4)  10~20g/L 、時間  10~30s 、溫度  15~40℃ 、陰極材料  不銹鋼  、陽極電流密度  1~1.5A/d㎡


8. 水清(qing)洗(xi)


9. 鍍鉻


鉻酐(CrO3)  250~280g/L  、陰極電流密度  25~35A/d㎡  、硫酸(H2SO4)  2.8~3.0g/L  、時間  1~3min  、溫度  45~50℃


10. 回收、清洗


11. 卸掛具,并上烘(hong)架烘(hong)干(gan)


   烘(hong)架要求(qiu)易插易取,互不接觸,并經防銹處理(li)。(烘(hong)干(gan)(gan)溫度(du)  90~100℃  、烘(hong)干(gan)(gan)時(shi)間   10~15min)


12. 絲網漏印


 ①. 印刷油墨。


  自干(gan)型耐腐蝕(shi)絲網印料。由無錫化工研究設計院研制生產(chan),具備易(yi)干(gan)、耐酸蝕(shi)、成膜清晰均勻、脫除方便(bian)的特性。


 ②. 稀釋劑


  由該(gai)院配套供應,用以調節(jie)印料(liao)稠度,清理絲(si)網(wang)印版(ban)及工(gong)具。


 ③. 絲印設備(bei)


  平面零件可類同普通油印機(ji),圓柱形筆(bi)桿應選用萬能絲印機(ji),工作原理如圖10-13所示。


圖 13.jpg


13.  上架烘干


 烘(hong)干溫度  70~90℃  、烘(hong)干時間   30~40min


14. 涂敷封(feng)口,修補絲印


15. 上烘架烘干


16. 上掛(gua)具


17. 電解活化(hua)腐(fu)蝕,退(tui)除未覆蓋絲印油墨部分的(de)鉻層,并活化(hua)基體表面(mian)。


   鹽酸(suan)(d=1.17)  30%  、陽極電(dian)流密度  0.5~2A/d㎡  、十二烷(wan)基硫酸(suan)鈉  0.1~0.3g/L  、時間  1~2min  、溫度  室溫


18. 水清洗


19. 閃(shan)鍍高(gao)氯鎳


  氯化鎳(NiCl2·6H2O)  140~180g/L  、鹽酸(HCl)(d=1.17)  100~120g/L  、陰極移動  16~18次/min


  時間  30~90s  、溫度  室(shi)溫  、陽極(ji)材料(liao)  軋制(zhi)鎳板,套袋  、陰極(ji)電流(liu)密(mi)度  3~5A/d㎡


20. 流動水清洗兩次(ci)以上,防止氯離子(zi)大量進入亮銅槽,認真徹底清洗。


21. 鍍(du)酸性光亮銅


  為了快速加厚浮雕圖(tu)案,采(cai)用(yong)高濃度(du)(du)、大(da)電(dian)流快速沉積銅,加速陰極移動(dong)。由(you)于圖(tu)紋線(xian)條粗(cu)細(xi)疏密(mi)不一(yi),電(dian)鍍時的電(dian)流密(mi)度(du)(du)分布(bu)不勻,以粗(cu)密(mi)圖(tu)案近陽板,細(xi)疏及無圖(tu)案處遠離陽極,以防細(xi)疏圖(tu)案DK過大(da)燒毛。


  高酸(suan)性銅液成(cheng)分(fen)及工作條(tiao)件(jian):


  硫酸銅(CuSO4·5H2O)   200~240g/L  、硫酸(H2SO4)  55~75g/L  、氯離子(Cl-)  50~80mg/L  、溫度  15~38℃


  光(guang)亮劑(ji)209A   0.5mL/L 、光(guang)亮劑(ji)209B 0.5mL/L  、光(guang)亮劑(ji)209C  8mL/L  、陰極電流密度  1.5~8A/d㎡(按(an)實際受鍍面積計算(suan))


  陰極移動  25~30次/min   、時間(jian)  銅層厚度達到明顯的浮(fu)雕效果即可(ke)(10~30min)


22. 水清洗


23. 鍍光亮(liang)鎳


 在普通亮(liang)鎳(nie)(nie)槽中進行,作(zuo)為中間層,能使(shi)圖(tu)案更絢麗光彩,并提(ti)高防護性(xing)(xing)和抗變(bian)色性(xing)(xing)。鍍(du)亮(liang)鎳(nie)(nie)配方及工作(zuo)條(tiao)件:


  硫酸鎳(NiSO4·7H2O) 280~320g/L  、pH   4~4.8  、氯化鎳(NiCl2·6H2O)  50~60g/L  、溫度  57~62℃


  硼酸(H3BO3)  40~45g/L  、陰極電流密度(DK)  2~8A/d㎡(按實際受鍍面積計算) 、 5#A   0.6~0.8mL/L


  光(guang)亮(liang)劑5#B  5~6mL/L  、時間  2~3min  、潤濕劑LB  1~2mL/L  、陰極移動  18~22次/min


24. 水清(qing)洗


25. 先消光鍍(du)鉻(ge)底(di)色鍍(du)金


 采用(yong)鍍金(jin)-鈷-銦合金(jin),鍍層光亮,耐磨性高(gao),延長浮雕精飾層的使(shi)用(yong)壽命。


鍍金合金溶(rong)液成分及工作條(tiao)件:


  氰化金鉀[KAu(CN)2]   5~8g/L  、檸檬酸鉀(K3C6H5O7)   50~90g/L  、檸檬酸(H3C6H5O7)   40~50g/L  、硫酸鈷(CoSO4·7H2O)  12~15g/L  


  硫酸銦(InSO4)   1~1.5g/L  、pH   3.5~4.2  、溫度  35~38℃  、時間   30~90s  、陰極電流密度(DK)  0.5~1.0A/d㎡


  陽(yang)極   99.99%純(chun)金(jin)  (陽(yang)極也可(ke)(ke)用不溶性不銹鋼(gang),但要(yao)按需補充金(jin)鹽)  、陰(yin)極移(yi)動  需要(yao),可(ke)(ke)采用旋轉陰(yin)極,使金(jin)層更加均勻


銀(yin)光亮浮雕工藝。鍍普通裝飾鉻(ge),溶液成(cheng)分(fen)及工作條件:


  鉻酐(CrO3)  250~280g/L  、陰極電流密度  20~28A/d㎡  、硫酸(H2SO4)  2.5~2.8g/L  、時間  0.5~1.5min  、溫度  45~50℃


26. 回(hui)收金或鉻酸,再用(yong)水清(qing)洗


27. 脫除印(yin)料


 弱堿溶液成分及工作條(tiao)件:


 磷酸三鈉(Na3PO4·12H2O)   10~30g/L   、碳酸鈉(Na2CO3)  5~10g/L  、溫度  40~50℃  、時間   以自來水能沖盡印料為止


28. 水(shui)清(qing)洗,去離子水(shui)浸(jin)洗


29. 上烘(hong)架


30. 烘干


  溫(wen)度  60~80℃  、 時間  10~20min