不銹鋼表面浮雕精飾是活化腐蝕與多層電鍍的綜合加工，表面浮雕精飾后的金屬制品圖案清晰，光彩絢麗奪目，層次手感柔和。立體感強。富有金屬鞋刻效果。首先在制筆行業得到大批量應用，收到巨大的經濟效益。
消(xiao)光(guang)鍍(du)(du)鉻底色鍍(du)(du)金(jin)或消(xiao)光(guang)鍍(du)(du)鉻底色銀(yin)光(guang)浮雕工(gong)藝流(liu)程如下：
1. 機械磨光、拋光
可按不(bu)銹鋼拋光工藝進行。
①. 拋光(guang)表面要求：無麻點、硬絲路、沖(chong)拉模具痕及(ji)飛邊。
②. 金剛(gang)砂(sha)：磨光(guang)按(an)表面(mian)光(guang)潔度(du)需要選用300=、400#、500#金剛(gang)砂(sha)。
③. 拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)膏：磨光(guang)用黃(huang)拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)膏，拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)用綠拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)膏，拉白光(guang)亮(liang)用白拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)膏+維也納(na)石灰(hui)。
④. 拋磨溫度：不宜(yi)過高，以免使不銹鋼金(jin)相結構改變。
2. 拉毛消光
可用(yong)砂輪、皮帶車、噴砂、鋼絲拋盤及專用(yong)拉絲機進行拉毛。按不同要求進行消光處理。
3. 化學除油
磷酸三鈉（Na3 PO4·12H2O) 20~30g/L 、海鷗洗滌劑 2~3mL/L
碳酸鈉（Na2CO3) 10~15g/L 、溫度 90~100℃ 、時間 10~30min
4. 水清洗，并上掛(gua)具
5. 電化學除油
氫(qing)氧化鈉（NaOH) 10~15g/L 、 平(ping)平(ping)加（勻染劑）0.5~1.0g/L 、溫度 80~90℃ 、時間 1~5min
磷酸三鈉（Na3PO4·12H2O) 20~25g/L 、陰極電流密度（DK) 1~3A/d㎡ 、碳酸鈉（Na2CO3) 10~15g/L
6. 水清(qing)洗
7. 電(dian)解活化腐(fu)蝕
硫酸（H2SO4) 10~20g/L 、時間 10~30s 、溫度 15~40℃ 、陰極材料 不銹鋼 、陽極電流密度 1~1.5A/d㎡
8. 水清洗
9. 鍍鉻
鉻酐（CrO3) 250~280g/L 、陰極電流密度 25~35A/d㎡ 、硫酸（H2SO4) 2.8~3.0g/L 、時間 1~3min 、溫度 45~50℃
10. 回(hui)收、清洗
11. 卸掛(gua)具，并上烘(hong)架烘(hong)干
烘架要求(qiu)易插易取，互不接觸，并經防銹處理。（烘干(gan)溫度 90~100℃ 、烘干(gan)時間 10~15min）
12. 絲網(wang)漏印
①. 印(yin)刷油墨。
自(zi)干型(xing)耐腐蝕絲(si)網(wang)印料。由無錫化工研(yan)究設計院研(yan)制(zhi)生產，具備易干、耐酸蝕、成(cheng)膜(mo)清晰均勻、脫除方(fang)便的特(te)性。
②. 稀釋劑
由該(gai)院配套供應，用以調節印(yin)料稠度，清理絲(si)網印(yin)版(ban)及工具。
③. 絲印設備
平(ping)面(mian)零件可類(lei)同普通油印機，圓柱形筆桿應選用萬(wan)能(neng)絲印機，工作原理如圖10-13所示(shi)。
13. 上架烘干
烘(hong)干溫度 70~90℃ 、烘(hong)干時間(jian) 30~40min
14. 涂(tu)敷封口，修(xiu)補絲印
15. 上烘架烘干(gan)
16. 上(shang)掛具
17. 電解(jie)活化腐蝕(shi)，退除(chu)未覆蓋絲(si)印(yin)油(you)墨部分的鉻層，并活化基體表面。
鹽酸(suan)（d=1.17) 30% 、陽極電(dian)流密度(du) 0.5~2A/d㎡ 、十二烷基硫(liu)酸(suan)鈉 0.1~0.3g/L 、時間(jian) 1~2min 、溫度(du) 室溫
18. 水(shui)清洗
19. 閃鍍高氯鎳
氯化鎳（NiCl2·6H2O) 140~180g/L 、鹽酸（HCl)(d=1.17) 100~120g/L 、陰極移動 16~18次／min
時間 30~90s 、溫(wen)(wen)度 室溫(wen)(wen) 、陽極(ji)材料 軋制(zhi)鎳(nie)板，套袋 、陰極(ji)電流密(mi)度 3~5A/d㎡
20. 流(liu)動水(shui)清洗兩(liang)次(ci)以上，防(fang)止(zhi)氯離子大量進入亮(liang)銅槽，認(ren)真徹底清洗。
21. 鍍酸性光(guang)亮(liang)銅
為了快速加厚浮(fu)雕圖(tu)(tu)案(an)，采用高濃度、大(da)電流(liu)快速沉積銅(tong)，加速陰極移(yi)動。由于圖(tu)(tu)紋(wen)線條粗細(xi)(xi)疏(shu)密(mi)不一，電鍍時(shi)的電流(liu)密(mi)度分布(bu)不勻，以粗密(mi)圖(tu)(tu)案(an)近(jin)陽板(ban)，細(xi)(xi)疏(shu)及無圖(tu)(tu)案(an)處(chu)遠離陽極，以防細(xi)(xi)疏(shu)圖(tu)(tu)案(an)DK過大(da)燒(shao)毛。
高酸性銅液成分及工作條件(jian)：
硫酸銅（CuSO4·5H2O) 200~240g/L 、硫酸（H2SO4) 55~75g/L 、氯離子（Cl-) 50~80mg/L 、溫度 15~38℃
光(guang)亮劑(ji)209A 0.5mL/L 、光(guang)亮劑(ji)209B 0.5mL/L 、光(guang)亮劑(ji)209C 8mL/L 、陰(yin)極電流(liu)密(mi)度 1.5~8A/d㎡(按實際(ji)受(shou)鍍面積計算）
陰極移(yi)動(dong) 25~30次／min 、時間 銅層(ceng)厚(hou)度達到明顯的浮雕效果即(ji)可(ke)（10~30min)
22. 水清洗
23. 鍍光亮鎳
在普通亮鎳槽中進行，作為中間層(ceng)，能使圖案更絢麗光彩(cai)，并提高防護性和抗變色性。鍍(du)亮鎳配方及工作條件：
硫酸鎳（NiSO4·7H2O) 280~320g/L 、pH 4~4.8 、氯化鎳（NiCl2·6H2O) 50~60g/L 、溫度 57~62℃
硼酸（H3BO3) 40~45g/L 、陰極電流密度（DK) 2~8A/d㎡(按實際受鍍面積計算） 、 5#A 0.6~0.8mL/L
光亮劑5#B 5~6mL/L 、時間 2~3min 、潤(run)濕劑LB 1~2mL/L 、陰極(ji)移動 18~22次／min
24. 水清洗
25. 先消(xiao)光(guang)鍍鉻底色(se)鍍金
采用鍍金－鈷－銦合金，鍍層(ceng)(ceng)光亮，耐磨性高，延長浮(fu)雕精飾層(ceng)(ceng)的使用壽命。
鍍金合金溶液成(cheng)分及工作(zuo)條件：
氰化金鉀［KAu(CN)2] 5~8g/L 、檸檬酸鉀（K3C6H5O7) 50~90g/L 、檸檬酸（H3C6H5O7) 40~50g/L 、硫酸鈷（CoSO4·7H2O) 12~15g/L
硫酸銦（InSO4) 1~1.5g/L 、pH 3.5~4.2 、溫度 35~38℃ 、時間 30~90s 、陰極電流密度（DK) 0.5~1.0A/d㎡
陽(yang)極 99.99%純金 （陽(yang)極也可用不溶性不銹(xiu)鋼，但要按需(xu)(xu)補(bu)充金鹽(yan)） 、陰(yin)極移(yi)動 需(xu)(xu)要，可采用旋轉(zhuan)陰(yin)極，使金層更加均勻
銀光(guang)亮浮(fu)雕工藝。鍍普通裝飾鉻，溶液成分(fen)及工作條件：
鉻酐（CrO3) 250~280g/L 、陰極電流密度 20~28A/d㎡ 、硫酸（H2SO4) 2.5~2.8g/L 、時間 0.5~1.5min 、溫度 45~50℃
26. 回收金或鉻(ge)酸，再用水清洗
27. 脫(tuo)除(chu)印(yin)料(liao)
弱堿溶液成分及工(gong)作條件(jian)：
磷酸三鈉（Na3PO4·12H2O) 10~30g/L 、碳酸鈉（Na2CO3) 5~10g/L 、溫度 40~50℃ 、時間 以自來水能沖盡印料為止
28. 水清洗，去離子水浸洗
29. 上烘架(jia)
30. 烘干(gan)
溫度 60~80℃ 、 時間 10~20min
