1. 補鍍硬鉻的適(shi)應性


a. 由于電網(wang)停電，鍍(du)鉻中途斷電，來電后需要繼續補鍍(du)鉻以達到規定厚度者。


b. 由于工作上的失誤，不銹鋼(gang)表面局部鍍上硬鉻而另一部分尚未鍍上鉻，需要在已鍍硬鉻表面和未鍍上硬鉻的不銹鋼表面上繼續鍍硬鉻至規定厚度者。


c. 鍍完(wan)硬(ying)鉻(ge)后鉻(ge)層厚(hou)度未(wei)達到規(gui)定(ding)尺寸，或在磨光硬(ying)鉻(ge)層后產(chan)品尺寸未(wei)達規(gui)定(ding)要求者。


 以(yi)上諸種(zhong)情(qing)況，可(ke)以(yi)不采用退除(chu)鉻層重(zhong)鍍鉻，而(er)可(ke)實施在(zai)表面(mian)上補鍍硬鉻。



2. 工藝分(fen)析(xi)


  鉻上(shang)(shang)(shang)補鍍鉻和(he)不銹(xiu)鋼鍍鉻的(de)(de)表(biao)(biao)面(mian)活(huo)(huo)化(hua)處理不盡相同(tong)，鉻上(shang)(shang)(shang)鍍鉻是(shi)(shi)要將(jiang)鍍鉻表(biao)(biao)面(mian)作為陽(yang)極(ji)進(jin)行(xing)腐蝕(shi)一定時間(jian)，以(yi)形(xing)成微觀(guan)粗糙的(de)(de)活(huo)(huo)化(hua)表(biao)(biao)面(mian)，再將(jiang)鍍件轉換(huan)成陰(yin)(yin)(yin)極(ji)，再階梯(ti)遞升(sheng)電流(liu)(liu)(liu)到工藝(yi)規范的(de)(de)電流(liu)(liu)(liu)進(jin)行(xing)鍍鉻。不銹(xiu)鋼表(biao)(biao)面(mian)電鍍是(shi)(shi)將(jiang)表(biao)(biao)面(mian)作為陰(yin)(yin)(yin)極(ji)以(yi)小電流(liu)(liu)(liu)活(huo)(huo)化(hua)，利用(yong)陰(yin)(yin)(yin)極(ji)釋放的(de)(de)原子態氫還(huan)原不銹(xiu)鋼表(biao)(biao)面(mian)的(de)(de)鈍化(hua)膜(mo)（或稱氧化(hua)膜(mo)），達(da)(da)到活(huo)(huo)化(hua)目的(de)(de)。在此情況下，為使(shi)漏鍍的(de)(de)不銹(xiu)鋼活(huo)(huo)化(hua)，又要使(shi)鉻層(ceng)表(biao)(biao)面(mian)活(huo)(huo)化(hua)，應選擇陰(yin)(yin)(yin)極(ji)活(huo)(huo)化(hua)為主，陽(yang)極(ji)腐蝕(shi)為輔(fu)的(de)(de)辦法，即(ji)鍍件先作為陽(yang)極(ji)腐蝕(shi)2min,再陰(yin)(yin)(yin)極(ji)活(huo)(huo)化(hua)時間(jian)相當于15min,隨后陰(yin)(yin)(yin)極(ji)電流(liu)(liu)(liu)逐(zhu)步(bu)上(shang)(shang)(shang)升(sheng)，不銹(xiu)鋼表(biao)(biao)面(mian)和(he)鉻層(ceng)表(biao)(biao)面(mian)逐(zhu)步(bu)達(da)(da)到鉻的(de)(de)析出電位，沉積了鉻層(ceng)。




3. 補鍍硬鉻工藝流(liu)程


 化(hua)學除油(you)（用去(qu)油(you)劑在(zai)室溫(wen)下擦洗）→水洗→酸(suan)洗［鹽酸(suan)10%(質量(liang)分數）清洗］→水洗→酸(suan)洗漏(lou)鍍(du)處（4+1氫(qing)氟酸(suan)）→水洗→人槽→預熱→陽(yang)極(ji)腐蝕（DA15~20A/d㎡,時間2min)→陰極(ji)活化(hua)（DK 5A/d㎡2,階梯遞(di)升(sheng)電(dian)流，每隔1~2min提(ti)升(sheng)一次電(dian)流，提(ti)升(sheng)幅度1~4A/d㎡,約提(ti)升(sheng)8次，共10~15min升(sheng)至正(zheng)常(chang)(chang)電(dian)流）→正(zheng)常(chang)(chang)鍍(du)鉻（DK 15~40A/d㎡,時間鍍(du)至最小厚度超過(guo)所(suo)需厚度）→水洗→檢驗→除氫(qing)。


 經過(guo)上述(shu)工藝流程的補鍍(du)鉻，原來漏(lou)鍍(du)處(chu)經檢查(cha)也全部(bu)補鍍(du)齊，無一(yi)處(chu)鉻層脫落。