1973年，伊文斯等人提出不銹鋼著色(se)膜生成原理，當不銹鋼浸入鉻酸和硫酸組成的著色液，在不銹鋼表面上發生電化學反應，見圖8-3,不銹鋼金屬（M)鉻、鎳、鐵等在陽極區放出電子變成金屬離子（M2+)。

陽極區：  M→M²⁺+2e  （8-1)     （M代表Cr、Ni、Fe)

在陰極區含六價鉻的鉻酸接收電子變成三價鉻（Cr³⁺),反應式如下：

陰極區： HCrO^-₄+7H⁺+3e → Cr³⁺+4H₂O （8-2)

當不銹鋼在溶液中浸漬一段時間后，在金屬／溶液界面上金屬離子（M²⁺)和Cr³⁺的濃度達到臨界值，并超過了富鉻的尖晶石氧化物的溶解度，由于水解反應而形成氧化膜，反應式如下：

pM²⁺+qCr³⁺+rH₂O → M_pCr_gO_q+2rH⁺（8-3)

其(qi)中  2p+3q=2r （8-4)

 當氧(yang)(yang)化(hua)膜一旦生成，陽極(ji)反應(ying)和(he)陰極(ji)反應(ying)立即(ji)分離，如圖8-3所(suo)示，此時，陽極(ji)反應(ying)仍在氧(yang)(yang)化(hua)膜的(de)(de)孔(kong)底(di)部即(ji)不(bu)銹(xiu)鋼表面進行，陰極(ji)反應(ying)在膜的(de)(de)表面進行。陽極(ji)反應(ying)產物M2+通(tong)過微孔(kong)向外擴(kuo)散(san)，在孔(kong)口和(he)孔(kong)底(di)之間存在擴(kuo)散(san)電位差(cha)Δφ,隨著(zhu)膜的(de)(de)加厚(hou)，Δφ增(zeng)大。膜厚(hou)不(bu)同就產生不(bu)同的(de)(de)干涉(she)色，這就是(shi)控制電位差(cha)可著(zhu)彩色的(de)(de)基本原理。